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真空泵在真空等離子清洗機(jī)的應(yīng)用
一,、什么是真空等離子清洗機(jī)
真空（低壓）等離子清洗機(jī)（PLASMA）是一種依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”,，來(lái)去除物體表面污漬的一種清洗設(shè)備,。它屬于電子工業(yè)清洗中的干法清洗,，過(guò)程中需要真空泵制造一定的真空條件滿足清洗所需,，等離子清洗所需要的等離子體主要通過(guò)特定的氣體分子在真空,、放電等特殊場(chǎng)合下產(chǎn)生,，像低壓氣體輝光等離子體。簡(jiǎn)單地如開(kāi)頭說(shuō),，等離子清洗需要在真空狀態(tài)下進(jìn)行（一般需保持在100Pa左右）,，所以需要真空泵進(jìn)行抽真空作業(yè),。
二、真空等離子清洗機(jī)工作原理
工作原理：真空等離子清洗機(jī)包括一個(gè)反應(yīng)腔室,、電源和真空泵組,。樣品放置反應(yīng)腔室內(nèi)，真空泵開(kāi)始抽氣至一定的真空度,，電源啟動(dòng)便產(chǎn)生等離子體,，然后氣體通入到反應(yīng)腔室，使腔室中的等離子體變成反應(yīng)等離子體,，這些等離子體與樣品表面發(fā)生反應(yīng),，生產(chǎn)可揮發(fā)的副產(chǎn)物，并由真空泵抽出,。
工作過(guò)程：首先將需要清洗的工件送入真空室固定,，啟動(dòng)真空泵等裝置開(kāi)始抽真空排氣到10Pa左右的真空度；接著向真空室引入等離子清洗用的氣體（根據(jù)清洗材質(zhì)的不同,，選用的氣體也不同,，如氧氣、氫氣,、氬氣,、氮?dú)獾龋毫Ρ３衷?00Pa左右,；在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,，使氣體被擊穿，并通過(guò)輝光放電使其發(fā)生離子化,，產(chǎn)生等離子體,；在真空室內(nèi)產(chǎn)生的等離子體*覆蓋被清洗工件后，開(kāi)始清洗作業(yè),，清洗過(guò)程會(huì)持續(xù)幾十秒到幾分鐘,。整個(gè)過(guò)程就是依靠等離子體在電磁場(chǎng)內(nèi)空間運(yùn)動(dòng)，并轟擊被處理物體表面,，大多數(shù)的物理清洗過(guò)程需要有高能量和低壓力,。在轟擊待清洗物表面以前,使原子和離子達(dá)到大的速度。 因?yàn)橐铀俚入x子體,所以需要高能量,這樣等離子體中的原子和離子的速度才能更高,。需要低壓力是為了在原子之間碰撞前增加它們之間的平均距離,這個(gè)距離指平均自由程,這個(gè)路徑越長(zhǎng),則轟擊待清洗物表面的離子的概率越高,。從而達(dá)到表面處理、清洗和刻蝕的效果（清洗過(guò)程某種程度就是輕微的蝕刻工藝）,；清洗完畢后,，排出汽化的污垢及清洗氣體，同時(shí)向真空室內(nèi)送入空氣恢復(fù)至正常大氣壓。
清洗過(guò)程中,，在真空泵控制真空室的真空環(huán)境時(shí),，氣體的流量決定了發(fā)光色度：如果色度較重，說(shuō)明真空度低,，氣體流量較大,；而偏白時(shí)，則是真空度過(guò)高,，氣體流量較?。痪唧w需要根據(jù)所需的處理效果,，來(lái)確定真空泵要實(shí)現(xiàn)的真空度,。
- 真空等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)
主要分為三個(gè)大的部分組成，分別是控制單元,、真空腔體以及真空泵,。
- 控制單元國(guó)內(nèi)使用的等離子清洗機(jī)，包括國(guó)外進(jìn)口的,，控制單元主要分為半自動(dòng)控制,、全自動(dòng)控制、PC電腦控制,、液晶觸摸屏控制四種方式,。而控制單元又分為兩個(gè)大的部分：
- 電源部分：主要電源頻率有三種，分別是40KHz,、13.56MHz,、2.45GHz，其中13.56MHz是需要電源匹配器的,。
2)系統(tǒng)控制單元：分三種,，按鈕控制(半自動(dòng)、全自動(dòng)),、電腦控制,、PLC控制(液晶觸摸屏控制)。
2,、真空腔體：真空腔體主要是分為兩種材質(zhì)的：1)不銹鋼真空腔體,。2)石英腔體,。
3,、真空泵：真空泵分為兩種：1)干泵。2)油泵,。
- 真空等離子清洗機(jī)的應(yīng)用
真空等離子清洗機(jī)作為一種精密干法清洗設(shè)備,適用于混合集成電路,、單片集成電路管殼和陶瓷基板的清洗;應(yīng)用于半導(dǎo)體、厚膜電路、元器件封裝前,、硅片 刻蝕后,、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清 洗,可去除金屬表面的油脂,、油污等有機(jī)物及氧化層,。 還可應(yīng)用于塑料、橡膠,、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等,。