真空度高，則真空鍍膜質(zhì)量較好,。

各種鍍膜技術(shù)都需要有一個蒸發(fā)源或靶子,，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進,，大大擴大了制膜材料的選用范圍,，無論是金屬、金屬合金,、金屬間化合物,、陶瓷或有機物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜,，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜,。

以真空技術(shù)為基礎，利用物理或化學方法,，并吸收電子束,、分子束、離子束,、等離子束,、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝,。

簡單地說,，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射,，使其在被涂覆的物體（稱基板,、基片或基體）上凝固并沉積的方法即為真空鍍膜。

主要還是對鍍膜工藝的影響,，無論什么鍍膜方式,，真空度越高亦代表爐內(nèi)所含的雜氣原子越少，這樣鍍膜膜層成分就更趨近于你想要的比例,，簡單的說就是純度及結(jié)晶狀態(tài)更可控,。

同時,，對于鍍膜來說，加熱基本是必須的,，較高的真空度可以防止基材表面氧化或氮化，對結(jié)合力有很大的幫助,。

真空鍍膜時,，真空度一般在10的負3次方左右，真空度大小是真空鍍膜時必須嚴格要求的指標之一,，它對鍍膜產(chǎn)品的顏色,、耐磨性、牢固度有直接的關(guān)系,，通常鍍膜時加少許氣體,，還有通過對電弧電源的控制增加母材在真空室的離化率，還可通過磁場控制電弧等以改變產(chǎn)品的外觀和內(nèi)在品質(zhì),。

真空如果太低的話鍍出來的產(chǎn)品會發(fā)黑,，時間一長還會發(fā)黃，一般情況下抽到5.0-2就可以了,，如果產(chǎn)品要求很高的話 就要抽到2.0-2了,，當然產(chǎn)品要求不高的話抽到-2也可以蒸發(fā)的，我所說的說是蒸發(fā)鍍,！

真空鍍膜--可見真空度對與真空鍍膜的影響

真空度的高低就決定了你產(chǎn)品的合格與否,，如果是裝飾性鍍膜，真空度的差別,，直接導致的是顏色不一樣

如果是功能性薄膜,，那么就是你做出的產(chǎn)品附著力，光學性能等等的各項指標出現(xiàn)偏差,。