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氦氣和氮?dú)饧兓?/strong>

載氣的純化在靈敏度要求高的任何應(yīng)用中都是要存在的,，不純氣體會影響檢測器的靈敏度,，甚至損壞毛細(xì)柱。氦氣純化器（HP2）可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體,，例如可以將 Ne、Ar,、Kr 和Xe 中的 ppm 級以下的不純氣體純化。

氮?dú)饧兓鳎?/span>NP2）同樣地作用于氮?dú)狻?氣體純化器的純化基質(zhì)是一種無揮發(fā)性,、有加熱活化的吸附性合金， 此穩(wěn)定的合金包含在焊接組件中,，所以可以安全簡單地使用。吸附劑粒子 表面有一層氧化膜需通過加熱活化,，活化過程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成,，這樣可允許氦氣在其間自由擴(kuò)散,，防止氧氣鈍化層的形成。氦氣和氮?dú)饧兓?/strong>有一自動調(diào)控的特征設(shè)計,，它保持吸附劑材料于最適溫度，消除了熱量流失的可能性,。

氦氣純化器

z 可純化氣體：He、Ne,、Ar、Kr,、Xe,、Rn  

z 最高操作壓強(qiáng)：1000 psig

z 可去除雜質(zhì)：出口雜質(zhì)低于 10ppb H2O、H2,、O2、N2,、NO,、NH3,、CO、CO2和 CH4,，此基于 10ppm 入口雜質(zhì)總量，其它去除雜質(zhì)包括 CF4,、CCl4,、SiH4和輕質(zhì)烴,。

z 未被去除雜質(zhì)：He,、Ne、Ar,、Kr、Xe,、Rn

氮?dú)饧兓?/span>

z 可純化氣體：只有 N2

z 最高操作壓強(qiáng)：1000 psig  

z 可去除雜質(zhì)：出口雜質(zhì)低于 10ppb H2O、H2,、O2、NO,、NH3、CO,、CO2和 CH4，此基于 10ppm 入口雜質(zhì)總量,，其它去除雜質(zhì)包括 CF4,、CCl4、SiH4和輕質(zhì)烴,。

z 未被去除雜質(zhì)：He,、Ne、Ar,、Kr,、Xe,、Rn、N2

注意事項：

警告

此產(chǎn)品不能用于氧氣——純氧氣或含大量氧氣組分的其他氣體,。凈化器的吸氣合金在操作溫度下可自燃。使用大量氧氣會引起材料爆炸,，可能損壞周圍區(qū)域,，或造成人員傷害。

在任何情況下,，無論基于合同、侵權(quán)或任何其他法律概念,，不論被告是否了解這類損壞的可能性,，Valco 儀器公司對任何直接、間接,、特殊的、偶然的或間接的損壞將不予負(fù)責(zé),。