小型等離子去膠機廠家的這款產(chǎn)品使用性能出色的組件和軟件,，可對工藝參數(shù)進行精確控制。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實現(xiàn)嚴格的質量控制,。內(nèi)置雙層氣浴電極,，有效提高清洗效率。配有節(jié)流閥,，防止真空泵油霧回流,。
PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機介紹：
去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程，在電子束曝光,，紫外曝光等微納米加工工藝后,，都要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題,，將直接影響后續(xù)工藝的順利完成,。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件，可對工藝參數(shù)進行精確控制,。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實現(xiàn)嚴格的質量控制,。該技術已經(jīng)成功的應用于功率晶體管、模擬器件,、傳感器,、光學器件、光電,、EMS/MOEMS,、生物器件、LED等領域,。
PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機特點：
1. 桌面型,，普通實驗臺即可安置。操作簡便上手快,、使用成本極低,、易于維護。
2.適合于4~6寸硅片及相同面積去膠,，可選配硅片專用托盤,。
3.內(nèi)置雙層氣浴電極，有效提高清洗效率,。配有節(jié)流閥,，防止真空泵油霧回流?？蛇x配耐用電極,，降低長時間使用后的腔體污染。
4.配置200W/13.56MHz等離子發(fā)生器,。兼顧物理作用和化學作用,。
5.具備前后吹掃功能，保證樣品處理潔凈度,，可配置獨立吹掃氣路,。
6.可選配電極間距可調，對各種幾何形狀,、表面粗糙程度各異的金屬,、陶瓷、玻璃,、硅片,、塑料等物件表面進行超清洗和表面改性。
PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機參數(shù)：
小型等離子去膠機應用：
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