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HMDS預(yù)處理潔凈干燥箱(無(wú)塵烘箱)

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更新時(shí)間:2019-09-24 13:57:56瀏覽次數(shù):949

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產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
儀器種類 精密烘箱 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),地礦,冶金,制藥
HMDS預(yù)處理潔凈干燥箱(無(wú)塵烘箱)通過(guò)對(duì)烘箱HMDS預(yù)處理過(guò)程的工作溫度,、處理時(shí)間,、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片,、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,,降低了光刻膠的用量,,提高光刻膠與硅片的黏附性。

詳細(xì)介紹

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:

HS40在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),,涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,,涂膠工藝也顯得尤為重要,。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,,容易造成漂條,、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕,。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況

HMDS預(yù)處理潔凈干燥箱(無(wú)塵烘箱)產(chǎn)品特點(diǎn):
1、機(jī)外殼采用冷軋板烤漆處理,,內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成,;加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周,內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置,。鋼化,、防彈雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體一目了然。
2,、箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),,整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)高真空度,。
3,、微電腦智能控溫儀,具有設(shè)定,,測(cè)定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能,,控溫精確,可靠,。

4,、智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序,溫度,,真空度及每一程序時(shí)間,。
5、HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì),真空箱密封性能佳,,確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮,。

6、整個(gè)系統(tǒng)采用材料制造,,無(wú)發(fā)塵材料,,適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境。

HMDS預(yù)處理潔凈干燥箱(無(wú)塵烘箱)產(chǎn)品技術(shù)參數(shù):

電源電壓:AC220V±10%/50Hz±2%

輸入功率:3000W

控溫范圍:室溫+10℃-250℃

溫度分辨率:0.1℃

溫度波動(dòng)度:±0.5℃

達(dá)到真空度:133Pa

容積:90L

工作室尺寸(mm):450*450*450

外形尺寸(mm):615*615*900
載物托架:2塊

時(shí)間單位:分鐘
 通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度,、處理時(shí)間,、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS的工作溫度,、處理時(shí)間

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