常壓射流等離子直噴槍 Air Jet plasma特點(diǎn)：針對(duì)三維物體均勻高效的處理,，良好的操控性和兼容性,，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
用途：適用于三維物體的表面清洗和表面活化,，廣泛應(yīng)用于手機(jī),，塑膠行業(yè)，COG綁定工藝等,。
       ★表面清洗：粘接,、點(diǎn)膠前、電鍍前的表面處理。
       ★表面活化：生物材料的表面修飾,，電線電纜表面噴碼,，塑料表面涂覆，金屬基材的表面清潔活化,，印刷涂布或粘接前的表面處理,。

常壓射流等離子直噴槍 Air Jet Plasma屬于低溫等離子處理設(shè)備

低溫等離子體處理可對(duì)材料進(jìn)行有效的表面凈化、表面活化,、表面粗化,、表面蝕刻、表面沉積,。 

  1,、等離子體處理的表面清潔作用：

  可有效去除物體表面有機(jī)污染物和氧化物。

主要特點(diǎn)：任何濕洗法清洗,，表面都會(huì)有殘留,，只有低溫等離子體表面處理才能做到*的凈化，得到超高潔凈度的表面,，且低溫等離子體只對(duì)材料納米級(jí)的表面起作用,，不會(huì)改變材料原有的特性，在對(duì)表面潔凈度要求較高的工藝中,，正在取代濕法處理工藝而得到廣泛使用,。

    處理機(jī)理：主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。氣體被激發(fā)為等離子態(tài),；重粒子撞擊固體表面,；電子與活性基團(tuán)與固體表面發(fā)生反應(yīng)解析為新的氣相物質(zhì)而脫離表面。

    等離子體清洗技術(shù)的大特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型,，均可進(jìn)行處理,，對(duì)金屬、半導(dǎo)體,、氧化物和大多數(shù)高分子材料,，如聚丙烯、聚脂,、聚酰亞胺,、聚氯乙烷、環(huán)氧,、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,，并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。
 

2,、等離子體處理的活化作用：

    經(jīng)低溫等離子體處理后使物體表面形成C=O羰基（Carbonyl）,、-COOH羧基（Carboxyl） ,、−OH羥基（Hydroxyl）三種基團(tuán)。這些基團(tuán)具有穩(wěn)定的親水功能,，對(duì)粘接,、涂覆有積極作用。

主要特點(diǎn)：可使聚合物表面出現(xiàn)部分活性原子,、自由基和不飽和鍵,，這些活性基團(tuán)與等離子體中的活性粒子發(fā)生反應(yīng)生成新的活性基團(tuán)，從而增加表面能量,，改變表面的化學(xué)特性,，增強(qiáng)表面附著力、粘結(jié)力,、張力,，包括對(duì)橡膠、復(fù)合材料,、玻璃,、布料、金屬等的處理,，涉及各行各業(yè),。
 

3、等離子體處理的表面粗化與蝕刻作用：

   對(duì)應(yīng)不同的材料采用相應(yīng)的氣體組合形成具有強(qiáng)烈蝕刻性的氣相等離子體與材料表面的本體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)及物理沖擊,，使材料本體表面的固態(tài)物質(zhì)被氣化,，生成如CO、CO2,、H2O等氣體，從而達(dá)到微蝕刻的目的,。

 主要特點(diǎn)：刻蝕均勻,，不改變材料基體特性；能有效粗化材料表面,，并能精準(zhǔn)控制微蝕量,。
 

 4、等離子體處理的涂層（沉積,、接枝）作用：

    等離子體處理工藝還可以應(yīng)用于對(duì)材料的微量涂層,。選配兩種相對(duì)應(yīng)的不同氣體同時(shí)進(jìn)入等離子體反應(yīng)艙，兩種氣體在等離子體環(huán)境下被激發(fā)而重新聚合,，會(huì)產(chǎn)生新的化合物沉積在材料的表面形成新的涂層,，利用等離子體處理的這種*，可以把本來(lái)不易涂覆的材料涂覆到物體的表面,，例如心臟支架,、人造血管的防血液凝固涂層,，材料的防刮表面和疏水性涂層等。

  主要特點(diǎn)：可使材料表面分子鏈發(fā)生斷裂產(chǎn)生新的自由基,、雙鍵等活性基團(tuán),，隨之發(fā)生交聯(lián)、接枝等反應(yīng),活性氣體會(huì)在材料表面聚合產(chǎn)生一層沉積層,，達(dá)到材料表面改性的目的,。

    實(shí)際上，低溫等離子體對(duì)物件進(jìn)行處理的過(guò)程中,，等離子氣體中的各種正負(fù)離子,、高能量并高速運(yùn)動(dòng)著的電子、重粒子等都會(huì)對(duì)被處理材料表面發(fā)生物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng),，所以上面所提及的低溫等離子體表面處理的四種（或五種）作用通常都會(huì)同時(shí)產(chǎn)生,。