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磁控濺射鍍膜超窄帶濾光片

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  • 型號(hào) SNB656
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  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 長(zhǎng)春市
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更新時(shí)間:2020/04/16 14:21:18瀏覽次數(shù):3284

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應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,化工,生物產(chǎn)業(yè)
濺射鍍膜是在真空條件下,,利用荷能粒子轟擊靶表面,,使被轟擊出的粒子在基片上沉積的技術(shù)。濺射鍍膜具有膜層和基體的附著力強(qiáng),,膜層均勻性好等優(yōu)點(diǎn),,適合各種金屬、氧化物,、半導(dǎo)體薄膜的制備,,廣泛應(yīng)用于光伏、LED,、微電子,、硬質(zhì)薄膜等領(lǐng)域。
656nm磁控濺射鍍膜超窄帶濾光片

詳細(xì)介紹

656nm磁控濺射鍍膜超窄帶濾光片

 

濺射鍍膜是在真空條件下,,利用荷能粒子轟擊靶表面,,使被轟擊出的粒子在基片上沉積的技術(shù)。濺射鍍膜具有膜層和基體的附著力強(qiáng),,膜層均勻性好等優(yōu)點(diǎn),,適合各種金屬、氧化物,、半導(dǎo)體薄膜的制備,廣泛應(yīng)用于光伏、LED,、微電子,、硬質(zhì)薄膜等領(lǐng)域。

 

一般情況下,,絕大多數(shù)超窄帶濾光片,,帶寬<2nm成品率較低,價(jià)格也較高,,2-5nm的帶寬為絕大多數(shù)超窄帶濾光片工業(yè)用戶的批量采購(gòu)選擇,。

 

超窄帶濾光片其主要參數(shù)有:中心波長(zhǎng)、半高寬(帶寬),、峰值透過(guò)率,、截止范圍、截止深度(OD值)

中心波長(zhǎng):一般就是儀器或設(shè)備的工作波長(zhǎng),,它是指通帶中心位置的波長(zhǎng),。

半高寬(帶寬):帶寬是指通帶中透過(guò)率為峰值透過(guò)率的一半的兩個(gè)位置之間的距離,有時(shí)也叫半高寬(不叫半帶寬),,英文字母經(jīng)常用FWHM(Full Width at Half Maximum)表示,。

峰值透過(guò)率:指帶通濾光片在通帶中zui高的透過(guò)率大小。

截止范圍:截止范圍是指除了通帶以外,,要求截止的波長(zhǎng)范圍,。對(duì)于窄帶來(lái)說(shuō),有一段是前截止,就是截止波長(zhǎng)小于中心波長(zhǎng)的一段,,還有一段長(zhǎng)截止,,截止波長(zhǎng)高于中心波長(zhǎng)的那一段。

截止深度(OD值):截止深度是指截止帶中允許能透過(guò)光的大透過(guò)率大小,。對(duì)不同的應(yīng)用系統(tǒng)對(duì)截止深度要求不同,,比如對(duì)于使用在激發(fā)光熒光的場(chǎng)合,一般要求截止深度在T<0.001%以下,,在普通的監(jiān)控識(shí)別系統(tǒng)中,,截止深度T<0.5%有時(shí)已經(jīng)足夠。為簡(jiǎn)便起見(jiàn),,經(jīng)常用OD值來(lái)表示截止深度,。OD=-lgT

用途:機(jī)器視覺(jué)、生化分析,、光學(xué)儀器,、光譜測(cè)量等領(lǐng)域

 

類型:一般瑞研光學(xué)可做200nm-2000nm以內(nèi)的任意個(gè)波長(zhǎng),透過(guò)率大于70%以上,,如果是磁控濺射鍍膜,,透過(guò)率大于90%;

截止深度有OD4-OD6,;大于OD6成品率較低,,可提供小批量定制服務(wù)

中心波長(zhǎng)656nm

中心波長(zhǎng)偏差:±1nm

帶寬2nm;3nm,;4nm,;5nm

直徑12.7mm,12.5mm,,25mm,,30mm

厚度1mm2mm,;2.5mm

外環(huán)封裝厚度3.5mm,,5mm,6mm

透過(guò)率大于80%,;大于90%

截止范圍200-800nm,;200-1000nm200-1200nm

截止深度大于OD4,;大于OD5,;>OD6

典型超窄帶光譜曲線


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