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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
|---|
產(chǎn)品介紹：日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計(jì)制造，針對(duì)掃描電鏡的精細(xì)需求而設(shè)計(jì),，適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品,，尤其適合于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測(cè)應(yīng)用,。
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
采用磁控型電極，大限度地減輕對(duì)樣品的損壞,。
離子濺射儀 MC1000特色
- 采用LCD觸摸屏,，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
- 可處理較厚或較大的樣品(選配件)
- 記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件
離子濺射儀 MC1000規(guī)格
| 項(xiàng)目 | 說(shuō)明 | |
|---|---|---|
| 放電 | 類(lèi)型 | 磁控二極管放電型(電場(chǎng)垂直于磁場(chǎng)) |
| 電極組成 | 反向平行盤(pán)(嵌入磁鐵) | |
| 電壓 | 大 0.4 kV DC(直流可變) | |
| 電流 | 大 40 mA DC | |
| 噴鍍速率 *1(大) [條件] 壓力：7 Pa 放電電流：40 mA 標(biāo)靶與樣品表面之間的距離：20 mm | Pt 靶(選配件) | 15 nm/min |
| Pt-Pd 靶(選配件) | 20 nm/min | |
| Au 靶(選配件) | 35 nm/min | |
| Au-Pd 靶(選配件) | 25 nm/min | |
| 樣品尺寸 | 大直徑 | φ60 mm |
| 大高度 | 20 mm | |
| 機(jī)械泵 | 135/162 l/min (50/60Hz) | |
| 靶材*2 | Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4) | |
| 電源要求 | 單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線(xiàn)纜(3 m) | |
| 尺寸 | 寬度 | 450 mm |
| 長(zhǎng)度 | 391 mm | |
| 高度 | 390 mm | |
| 重量 | 主機(jī)：約 25 kg 機(jī)械泵：約 28 kg | |
*1
： 噴鍍速率僅供參考
*2
： 主機(jī)內(nèi)不包括靶材。請(qǐng)從選項(xiàng)中選擇(鉑,，鉑-鈀,，金，金-鈀),。
應(yīng)用領(lǐng)域：
離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,，通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑,、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,，并提高觀測(cè)效率，另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳,，實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析,。
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