料漿制備與分散
采用超聲分散或微射流均質(zhì)技術(shù),,確保納米粒子均勻懸浮,避免團聚(推薦粒徑分布CV值≤10%),。
添加穩(wěn)定劑(如PEG,、PVP)和凍干保護劑(海藻糖、甘露醇),,比例需通過正交試驗優(yōu)化,。
預(yù)凍與冰晶控制
階梯降溫:從室溫以1~2℃/min降至-40℃,,再快速降至-80℃(液氮輔助),抑制大冰晶形成,。
退火處理:在-25℃保溫2小時,,優(yōu)化冰晶分布,減少相分離風(fēng)險,。
升華干燥與解析
真空控制:維持50~100 Pa真空度,,配合冷阱溫度≤-75℃,確保高效升華,。
梯度升溫:升華階段隔板溫度從-40℃升至-10℃,,解析階段升至35℃,殘余水分≤1%,。
安全與防爆設(shè)計
采用惰性氣體(N?)保護系統(tǒng),,防止納米材料氧化或燃爆。
設(shè)備布局實現(xiàn)機電分離與人機隔離,,降低操作風(fēng)險,。
組件 | 選型標(biāo)準(zhǔn) | 推薦配置 |
凍干主機 | - 凍干面積匹配產(chǎn)能(如10㎡對應(yīng)200L/批) | Pilot100-105ES,,10㎡,200L/批 |
冷阱 | - 極限溫度≤-75℃(滿足乙腈等溶劑升華) | 帶Teflon涂層防腐 |
真空泵 | - 耐腐蝕組合泵(隔膜+旋片) | 萊寶(Leybold)或愛德華(Edwards)品牌,,適配有機溶劑凍干 |
接觸部件:316L不銹鋼電解拋光(Ra≤0.4μm),,符合GMP無菌標(biāo)準(zhǔn)。
數(shù)據(jù)追溯:配備審計追蹤功能,,符合FDA 21 CFR Part 11,。
前處理區(qū):
料漿制備罐(帶高剪切分散機)→ 超聲均質(zhì)機 → 無菌過濾系統(tǒng)(0.2μm膜),。
凍干核心區(qū):
自動灌裝線(精度±1%)→ 凍干倉(帶視覺檢測剔除空瓶)→ 冷阱與真空機組,。
后處理區(qū):
自動壓蓋/軋蓋機 → 在線稱重分選 → 充氮包裝系統(tǒng)(殘氧量≤1%)。
CIP/SIP系統(tǒng):凍干倉與管路支持純蒸汽滅菌(121℃,,30分鐘),,表面微生物殘留≤1 CFU/100cm2。
設(shè)備配置:Pilot200-205ES凍干機(20㎡,,400L/批)+ Leybold真空泵 + 在線NIR監(jiān)測。
工藝參數(shù):凍干周期48小時,,殘余水分0.8%,,粒徑分布D50=50nm(CV=8%)。
經(jīng)濟效益:單線年產(chǎn)能120噸,終端售價¥8000/kg,,投資回收期≤3年,。
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