晟鼎小講堂 | 從硅片到電池片,，看看等離子清洗技術(shù)如何用,？

硅基光伏電池片制程

Silicon-based photovoltaic cell process

從硅片到電池片：

以目前主流的單晶硅PERC電池制作流程為例，從硅片到電池片大概要經(jīng)歷：

→清洗制絨

→擴(kuò)散制結(jié)

→刻蝕&去磷硅玻璃

→PECVD

→印刷電極&燒結(jié)

→分選測試/檢驗(yàn)入庫

而在清洗,、制絨,、刻蝕、PECVD等環(huán)節(jié),，均可使用晟鼎等離子清洗機(jī),，下面我們來看具體的應(yīng)用。

—   Silicon-based photovoltaic cell process   —

PART TWO

等離子在電池片工藝中的應(yīng)用

Application of Plasma in Battery sheet

01

清洗與制絨

在清洗與制絨工藝環(huán)節(jié),，一般是用堿性或酸性腐蝕液進(jìn)行濕式化學(xué)清洗,，制絨效果不僅受多因素影響，且多孔硅結(jié)構(gòu)松散不穩(wěn)定,，具有較高表面復(fù)合率,。

等離子清洗機(jī)處理方案：

使用離子體的高速粒子轟擊電池片表面，可將絨面處理的更加細(xì)致有序,，表面結(jié)構(gòu)也更加穩(wěn)定,，減少復(fù)合中心的產(chǎn)生；還可同時清除材料表面的指紋油污,，減少濕式處理的烘干環(huán)節(jié),。

02

刻蝕&去磷硅玻璃

在上道擴(kuò)散工藝中,，PN結(jié)的正面所收集到的光生電子會沿著邊緣擴(kuò)散有磷的區(qū)域流到PN結(jié)的背面,，從而造成短路,。因此，必須對太陽能電池周邊的摻雜硅進(jìn)行刻蝕,，以去除電池邊緣的PN結(jié),。

通常采用等離子刻蝕技術(shù)完成這一工藝。等離子體可以通過粒子吹掃將多余擴(kuò)散的磷分解,，從而達(dá)到去除PSG的目的,。

03

PECVD

為了減少表面反射,提高電池的轉(zhuǎn)換效率,需要沉積一層氮化硅減反射膜。

工業(yè)生產(chǎn)中常采用PECVD設(shè)備制備減反射膜,，PECVD即等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積,，它是利用低溫等離子體作能量源，產(chǎn)品置于低氣壓下輝光放電的陰極上,，利用輝光放電使產(chǎn)品升溫到預(yù)定的溫度,，然后通入適量的反應(yīng)氣體SiH4和NH3，氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反應(yīng),，在產(chǎn)品表面形成固態(tài)薄膜即氮化硅薄膜,。

—  Application of Plasma in Battery sheet    —

PART THREE

晟鼎等離子清洗機(jī)

SINDIN Plasma Cleaning Machine

01

大氣等離子清洗機(jī)

適用于光伏玻璃、電池片,、背板,、框架等部件的清洗活化，可搭配直噴或旋轉(zhuǎn)槍頭,，可定制大氣等離子流水線設(shè)備,。

02

寬幅等離子清洗機(jī)

適用于光伏玻璃、電池片,、背板等部件的清洗活化,，可客制化寬幅線性等離子流水線設(shè)備。

03

真空等離子清洗機(jī)

適用于面積較大,、形狀復(fù)雜的材料清洗,，可搭配多路工藝氣體，可客制真空等離子流水線設(shè)備,。