真空等離子清洗機(jī)在現(xiàn)在的工業(yè)生產(chǎn)中起到很重要的作用，現(xiàn)在清洗機(jī)在很多企業(yè)中都是*的清洗設(shè)備,。等離子清洗不需要添加任何溶劑,，且無(wú)有害物質(zhì)產(chǎn)生，也通常被叫做環(huán)保型的干式清洗,。那么,，清洗機(jī)是如何達(dá)到清洗的效果呢？
等離子體清洗原理：通過(guò)化學(xué)或物理作用對(duì)工件表面進(jìn)行處理,，實(shí)現(xiàn)分子水平的污染物去除（一般厚度為幾個(gè)～幾十個(gè)nm）,。被清除的污染物可能為有機(jī)物、環(huán)氧樹(shù)脂,、光刻膠,、氧化物、微顆粒污染物等,。對(duì)應(yīng)不同的污染物,，應(yīng)采用不同的清洗工藝。按照清洗原理可以分為：物理清洗和化學(xué)清洗,。
物理清洗：表面作用以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗,，也叫濺射腐蝕（SPE）。我們以Ar來(lái)說(shuō)明真空等離子清洗機(jī)的化學(xué)反應(yīng),。
例：Ar＋e-→Ar＋＋2e-Ar＋＋沾污→揮發(fā)性沾污
Ar＋在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產(chǎn)生動(dòng)能,，然后轟擊在放在負(fù)電極上的被清洗工件表面，工件表面的污染物被轟擊后,，游離在腔體內(nèi)部,，然后經(jīng)過(guò)真空泵抽出腔體外部。一般用于去除氧化物,、環(huán)氧樹(shù)脂溢出或是微顆粒污染物,。
化學(xué)清洗:表面作用以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗,，又稱(chēng)PE。
例1：O2＋e-→2O*＋e-O*＋有機(jī)物→CO2＋H2O
從反應(yīng)式可見(jiàn),，氧等離子體通過(guò)化學(xué)反應(yīng)可使非揮發(fā)性有機(jī)物變成易揮發(fā)的H2O和CO2,。
例2：H2＋e-→2H*＋e-H*＋非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬＋H2O
從反應(yīng)式可見(jiàn)，氫等離子體通過(guò)化學(xué)反應(yīng)可以去除金屬表面氧化層,，通常用于清潔金屬表面,，在清洗過(guò)程中避免金屬氧化。
在真空等離子清洗機(jī)正常的清洗過(guò)程中物理清洗與化學(xué)清洗時(shí)同時(shí)存在的,，可以根據(jù)具體要求選擇不同的工藝氣體,。
