一,、日立熒光分布成像系統（EEM View）簡介

       作為熒光分光光度計的配件系統，這是將相機與熒光分光光度計的結合,，融合了智能算法的*技術,。能夠同時獲取樣品圖像和光譜信息。

新型熒光分布成像系統可安裝到日立F-7000/71000熒光分光光度計的樣品倉內,。入射光經過積分球漫反射后均勻照射到樣品,，利用熒光光度計標配的熒光檢測器可以獲得樣品熒光光譜，積分球下方的CMOS相機可獲得樣品圖像,，并利用*的AI光譜圖像處理算法,，可以同時得到反射和熒光成分圖像。

    二,、  日立熒光分布成像系統（EEM View）特點：

    1. 可以全面測定樣品的光譜數據（反射光,、熒光特性）

在不同光源條件下（白光和單色光）拍攝樣品圖像，（區(qū)域：Φ20mm,、空間分辨率：0.1 mm左右,、波長范圍：360-700nm），同時利用*的光譜算法,，分別顯示熒光圖像和反射圖像, 根據圖像可獲得不同區(qū)域的光譜信息（熒光光譜,、反射光譜）

熒光分布成像系統軟件分析（EEM View Analysis）界面(樣品：LED電路板)

2.  樣品安裝簡單，適用于各種樣品測試

樣品只需擺放到積分球上,，安裝十分簡單,！

豐富的樣品支架

支持精確測量的校正工具

熒光分布成像系統是一種全新的技術，將它配置到熒光分光光度計中,，改變了常規(guī)熒光光度計只能獲得樣品表面區(qū)域平均化信息的現狀,，可以查看樣品圖像任意區(qū)域的光譜信息，十分適合涂料,、材料,、油墨、LED、化工等領域,。