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涂層光學晶片的自動分光光度空間分析-Cary 7000全能型分光光度計
閱讀：1085 發(fā)布時間：2021-1-20前言 ：頻繁且經(jīng)濟有效的光譜表征對于開發(fā)具有競爭力的光學薄膜涂層非常 重要,。*自動化且無人值守的光譜測量有助于降低每次分析的成 本,、提高分析效率，還有助于擴展質(zhì)保程序,。在生產(chǎn)過程中,，滿負荷 運轉(zhuǎn)的沉積室中常會涂覆大面積、通常呈圓形的襯底晶片,。高效的光 學表征工具必須能夠在晶片被切割之前從用戶晶片表面的特征 點獲得準確且有意義的信息,。
專為 Cary 7000 全能型分光光度計 (UMS) 和全能型 測量附件包 (UMA) 設計的安捷倫固體自動進樣器可 容納直徑達 200 mm (8") 的樣品,，并提供 UV-Vis 和 NIR 光譜范圍內(nèi)的角度反射率和透射率數(shù)據(jù)。 此前的研究已經(jīng)證明,，將 Cary 7000 UMS 與自動 進樣器相結(jié)合,，能夠?qū)?32x 樣品支架上的多個樣品 進行自動化、無人值守的分析 [1],，并對氧化鋅錫 (ZTO) 涂層的線性能帶隙梯度進行空間測繪 [2],。本 研究使用配備自動進樣器的 Cary 7000 UMS 對直 徑 200 mm 晶片上的涂層均勻性進行了自動化的角 度分辨測繪。
儀器與樣品： Cary 7000 UMS UV-Vis/NIR 分光光度計（圖 1）專 為 250 nm 至 2500 nm 波長范圍內(nèi)的多角度光度 光譜 (MPS) 測量而設計,。在 MPS 應用中,，我們需 要測量樣品在較寬入射角范圍內(nèi)（從接近垂直到 傾斜入射角）的反射率和/或透射率 [3]。近 有研究證明,，MPS 數(shù)據(jù)對于復雜薄膜的逆向工程 [4],、深入了解電介質(zhì)薄膜中總損耗的振蕩 [5]，以 及改進涂層生產(chǎn)步驟中應用的逆向工程策略 [6] 很 有幫助,。 UMA 采用簡單且通用的設計,，能夠?qū)悠泛蜋z測 器相互獨立地定位為任意角度，而無需操作人員干 預,。在單個序列中,，UMA 在 5°≤ |θi | ≤ 85° 范圍內(nèi) （即，垂直光束兩側(cè)的角度被標記為 +/-）以不同的 入射角 (θi ) 從樣品表面*相同的斑點處同時采集 透射率和反射率數(shù)據(jù),。由于配備了基于納米線柵技 術(shù)的自動偏光片,，UMA 能夠以 S、P 或用戶任何偏振角獲得準確的測量結(jié)果,。 Cary 7000 UMS 的核心組件 Cary 全能型測量附件 包 (UMA) 可單獨購買,，用戶可通過更換此附件包 升級現(xiàn)有的 Cary 系列 UV-Vis-NIR 分光光度計（包 括 4000、5000 和 6000i）,。
自動進樣器 安捷倫固體自動進樣器是一款可獨立控制的樣品支 架,，專為配合 UMA 使用而設計。該自動進樣器安裝 在 UMA 的大樣品室內(nèi),，位于樣品臺旋轉(zhuǎn)軸上方。得 益于這種設計,，自動進樣器不會限制 UMA 的基本 功能,。事實上，該設計為樣品定位增加了 2 個自由 度,，進一步提升了測量性能,。如圖 2 所示，這些額 外的自由度是指圍繞入射光束軸 (Io) 的徑向方向 (z) 和旋轉(zhuǎn)方向 (Φ),。分析人員可根據(jù)不同的樣品類型 選擇多種樣品支架,，用于安放多個單獨的樣品（ 多安放 32 個直徑 1 英寸的樣品）或單個大直徑樣 品（大直徑 200 mm,，8 英寸）。這讓安捷倫固體 自動進樣器成為了升級 Cary 7000 UMS 的理想之 選,，儀器升級后可對大批量（批次）光學元件進行 光學表征,，還能對體積更大的單個樣品進行空間測 繪，實際分辨率極限可低至 2 mm × 2 mm,。
結(jié)論 ：在本研究中,，我們使用 Agilent Cary 7000分光光度計UMS 和 固體自動進樣器成功分析了直徑 200 mm 的預切割 晶片的涂層均勻性。該系統(tǒng)被設置為按照用戶自定 義的測繪特征在以 1064 nm 為中心的波長下對晶 片表面進行 %R 測量,。所得的曲線表明晶片中心到 邊緣的涂層質(zhì)量有所下降,。該信息可用于找出并克 服涂層工藝中潛在的變異性。