KDH-2000自耗真空電弧爐熔煉爐

一,、設(shè)備用途 ：

用于 富勒烯，碳納米烯,，石墨烯等納米材料的研發(fā)制備生產(chǎn)等使用,，也廣泛應(yīng)用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,，以及材料的提純等

二,、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號(hào)： KDH-2000

2,、電弧熔煉室：臥式圓筒型真空室

3,、真空系統(tǒng)配置：由2X-30旋片式機(jī)械泵,、TK-200擴(kuò)散泵、三臺(tái)高真空閥門和各種管路組成高真空系統(tǒng)真空度可達(dá)6.7*10-3pa

4,、冷態(tài)極限真空度 ≤6.7x10E-3Pa

5,、自耗電流：額定電流2000A（電源客戶自備）

6、熔煉工位： 兩工位安裝在同一真空腔室,，可獨(dú)立工作

7,、工作氣體：Ar氣；

8,、電極升降方式：伺服電動(dòng)升降

9,、電極升降速度：慢速升降速度：0~60mm/min

                 快速升降速度：0-300mm/min

10、引弧方式：高頻引弧

11,、爐體側(cè)部開門,，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，爐體上有兩個(gè)觀察視窗,?？汕宄吹綘t內(nèi)工作情況，