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目錄:上海程造儀器設(shè)備有限公司>>干燥箱系列>>HMDS真空鍍膜機/真空烘箱>> HMDS真空鍍膜機/真空烘箱

HMDS真空鍍膜機/真空烘箱
  • HMDS真空鍍膜機/真空烘箱
參考價 50000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
50000
≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海
屬性

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更新時間:2025-02-21 15:52:00瀏覽次數(shù):3601評價

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HMDS真空鍍膜機/真空烘箱,,在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,,涂膠工藝也顯得尤為重要,。

HMDS真空鍍膜機/真空烘箱產(chǎn)品介紹:
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),,涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要,。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,,尤其是正膠,,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條,、浮膠等,,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕,。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況,。
產(chǎn)品特點:
1、機外殼采用不銹鋼SUS304材質(zhì)制造,,內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成,;加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周,內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置,。鋼化,、防彈雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體一目了然。
2,、箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),,整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)高真空度,。
3,、微電腦智能控溫儀,,具有設(shè)定,測定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能,,控溫精確,可靠,。
4,、智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序,溫度,,真空度及每一程序時間,。
5、HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計,,真空箱密封,,確保HMDS氣體無外漏顧慮。
6,、整個系統(tǒng)采用材料制造,,無發(fā)塵材料,適用100級光刻間凈化環(huán)境,。
HMDS真空鍍膜機/真空烘箱產(chǎn)品參數(shù):

型號

HMDS-20

HMDS-90

HMDS-210

容積

20L

90L

210L

電源電壓

AC220V±10%/50Hz±2%

AC380V±10%/50Hz±2%

輸入功率

1500W

3000W

4000W

控溫范圍

室溫+10℃-250℃

溫度分辨率

0.1℃

溫度波動度

±0.5℃

達到真空度

133Pa

工作室尺寸(mm)

300*300*275

450*450*450

560*640*600

外形尺寸(mm)

465*465*725

850*700*1400

720*820*1050

載物托架

1塊

2快

3塊

時間單位

分鐘

選配件
真空泵:德國品牌,,萊寶“DC”雙極系列旋片式油泵,真空高,,噪音低,,運行穩(wěn)定。
連接管:不銹鋼波紋管,,*密封將真空泵與烘箱連接,。

HMDS預(yù)處理的必要性:
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),,涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,,容易造成漂條、浮膠等,,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況,。將HMDS涂到硅片表面后,,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物,。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,,起著偶聯(lián)劑的作用,。

真空鍍膜機的原理:
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱HMDS預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間,、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片,、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,,降低了光刻膠的用量,,提高光刻膠與硅片的黏附性。

真空鍍膜機的一般工作流程:
先確定烘箱工作溫度,。典型的預(yù)處理程序為:打開真空泵抽真空,,待腔內(nèi)真空度達到某一高真空度后,開始充人氮氣,,充到達到某低真空度后,,再次進行抽真空、充入氮氣的過程,,到達設(shè)定的充入氮氣次數(shù)后,,開始保持一段時間,使硅片充分受熱,,減少硅片表面的水分,。然后再次開始抽真空,充入HMDS氣體,,在到達設(shè)定時間后,,停止充入HMDS藥液,進入保持階段,,使硅片充分與HMDS反應(yīng),。當達到設(shè)定的保持時間后,再次開始抽真空,。充入氮氣,,完成整個作業(yè)過程。HMDS與硅片反應(yīng)機理如圖:先加熱到100℃-200℃,,去除硅片表面的水分,,然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),在硅片表而生成硅醚,,消除氫鍵作,,從而使極性表面變成非極性表面。整個反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(*基硅烷基較大)阻止其進一步反應(yīng),。

尾氣排放等:多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,,排放到廢氣收集管道,。在無廢氣收集管道時需做專門處理。

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