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HMDS真空鍍膜機(jī)/真空烘箱
  • HMDS真空鍍膜機(jī)/真空烘箱
參考價(jià) 50000
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
50000
≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海
屬性

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更新時(shí)間:2023-07-04 08:46:39瀏覽次數(shù):3266評價(jià)

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HMDS真空鍍膜機(jī)/真空烘箱,在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,,涂膠工藝也顯得尤為重要。

HMDS真空鍍膜機(jī)/真空烘箱產(chǎn)品介紹:
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),,涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要,。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,,尤其是正膠,,顯影時(shí)顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條,、浮膠等,,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕,。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況,。
產(chǎn)品特點(diǎn):
1、機(jī)外殼采用不銹鋼SUS304材質(zhì)制造,,內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成,;加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周,內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置,。鋼化,、防彈雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體一目了然。
2,、箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),,整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)高真空度,。
3,、微電腦智能控溫儀,具有設(shè)定,,測定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能,,控溫精確,可靠,。
4,、智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序,溫度,,真空度及每一程序時(shí)間,。
5、HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計(jì),真空箱密封,,確保HMDS氣體無外漏顧慮,。
6、整個(gè)系統(tǒng)采用材料制造,,無發(fā)塵材料,,適用100級光刻間凈化環(huán)境。
HMDS真空鍍膜機(jī)/真空烘箱產(chǎn)品參數(shù):

型號

HMDS-20

HMDS-90

HMDS-210

容積

20L

90L

210L

電源電壓

AC220V±10%/50Hz±2%

AC380V±10%/50Hz±2%

輸入功率

1500W

3000W

4000W

控溫范圍

室溫+10℃-250℃

溫度分辨率

0.1℃

溫度波動度

±0.5℃

達(dá)到真空度

133Pa

工作室尺寸(mm)

300*300*275

450*450*450

560*640*600

外形尺寸(mm)

465*465*725

850*700*1400

720*820*1050

載物托架

1塊

2快

3塊

時(shí)間單位

分鐘

選配件
真空泵:德國品牌,,萊寶“DC”雙極系列旋片式油泵,,真空高,噪音低,,運(yùn)行穩(wěn)定,。
連接管:不銹鋼波紋管,*密封將真空泵與烘箱連接,。

HMDS預(yù)處理的必要性:
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,,涂膠工藝也顯得尤為重要,。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,,容易造成漂條,、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕,。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物,。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,,起著偶聯(lián)劑的作用,。

真空鍍膜機(jī)的原理:
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱HMDS預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間,、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片,、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性,。

真空鍍膜機(jī)的一般工作流程:
先確定烘箱工作溫度,。典型的預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_真空泵抽真空,,待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一高真空度后,開始充人氮?dú)?,充到達(dá)到某低真空度后,,再次進(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^程,,到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后,,開始保持一段時(shí)間,使硅片充分受熱,,減少硅片表面的水分,。然后再次開始抽真空,充入HMDS氣體,,在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后,,停止充入HMDS藥液,進(jìn)入保持階段,,使硅片充分與HMDS反應(yīng),。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后,再次開始抽真空,。充入氮?dú)?,完成整個(gè)作業(yè)過程。HMDS與硅片反應(yīng)機(jī)理如圖:先加熱到100℃-200℃,,去除硅片表面的水分,,然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),在硅片表而生成硅醚,,消除氫鍵作,,從而使極性表面變成非極性表面。整個(gè)反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(*基硅烷基較大)阻止其進(jìn)一步反應(yīng),。

尾氣排放等:多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,,排放到廢氣收集管道。在無廢氣收集管道時(shí)需做專門處理,。

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