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DMD無掩膜光刻機無需制造掩膜,，采用DMD數(shù)字掩膜,可在抗蝕劑內(nèi)曝光所希望的任意圖案。無掩膜光刻機可以讀取任何CAD數(shù)據(jù),，除此之外DMD式無掩膜光刻機還可以讀取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式,。DMD式無掩膜光刻機使用365nmLED光源，降低價格的同時實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光,。采用10倍物鏡,，一次曝光面積可達1mm´0.6mm，曝光時間僅需1s,。結(jié)合電動移動平臺,，可實現(xiàn)曝光拼接，分辨率可達到3mm,?？赏ㄟ^公司編寫的軟件完成詳細設(shè)定，使操作簡潔方便,。

DMD無掩膜光刻機與傳統(tǒng)的光刻機不同,，AU-PALET光刻機采用DMD數(shù)字掩膜光刻技術(shù)，無需制造掩膜,。大大降低了時間和成本,。無掩膜光刻機可以讀取任何創(chuàng)建的CAD文件，直接進行光刻,。除了CAD文件,，還可以讀取豐富的其它格式的數(shù)據(jù)，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等,。

AU-PALET DMD式無掩膜光刻機采用短波段的LED燈為光源,，相對于其它的光源,，擁有更高的穩(wěn)定性和更長的壽命，降低價格的同時實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光,。AU-PALET 無掩膜光刻機為面曝光,，采用10倍的物鏡，一次曝光面積可達到1mm´0.6mm,，結(jié)合電動平移臺可實現(xiàn)曝光拼接,，可達到更大的曝光面積?？赏ㄟ^公司編寫的軟件完成簡單操作和詳細設(shè)定,，操作簡潔方便。

設(shè)備有限公司推出的DMD式無掩膜光刻機有兩種,。

①  AU-PALET是一款快速光刻的無掩膜光刻機,。本裝置采用375nm的LED光源，實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光,，并且擁有更高的穩(wěn)定性和更長的壽命,。采用10´的物鏡曝光面積達到1mm´0.6mm，光刻分辨率達到5mm,，并在10s 內(nèi)完成曝光,。

②  

②AU-PALET­_new 是AU-PALET的升級版本，在光源上采用波長更短的365nm的LED燈作為光源,，采用10´的物鏡曝光面積達到1mm´0.6mm,，光刻分辨率達到3mm，并在1s 內(nèi)完成曝光,。

u  主要特點

• 高速度（1s）

• 廣范圍（1´0.6mm）

• 365nm LED光源

• 高分辨率 （3mm）

• 成本低

u  主要應(yīng)用

磁性薄膜等的任意形狀的圖案的形成

傳感器,，半導體器件的制作

MEMS器件的試制、

光電子,，LED的試制

微流體器件的試制

掩膜版制作

細胞分離通道等的制作

光波導路的制作

主要參數(shù)