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更新時(shí)間：2024-11-08 19:31:48瀏覽次數(shù)：229次

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應(yīng)用領(lǐng)域	綜合

ICCS

催化劑原位表征系統(tǒng)

綜合催化劑表征

配置高精度,、高靈敏度的熱導(dǎo)檢測(cè)儀（TCD）,，用于監(jiān)測(cè)流入和流出反應(yīng)器的氣體濃度變化
帶有Peltier系統(tǒng)的內(nèi)部冷阱可在 -20 °C 至 65 °C 范圍內(nèi)精準(zhǔn)控制溫度，去除可冷凝的液體

綜合催化劑表征

Micromeritics 催化劑原位表征系統(tǒng)（ICCS）給研究者提供一個(gè)先進(jìn)的工具來(lái)研究在精確控制有代表性的工藝條件下反應(yīng)結(jié)果與關(guān)鍵參數(shù)（如活性位點(diǎn)數(shù)量）的關(guān)系,。

ICCS 是一套獨(dú)立的配件,，可附加在微型反應(yīng)器這類(lèi)動(dòng)態(tài)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備上。為其增加兩類(lèi)動(dòng)態(tài)化學(xué)吸附分析功能：程序升溫分析（TPx）和脈沖化學(xué)吸附,。

反應(yīng)前可在新鮮催化劑上進(jìn)行化學(xué)吸附分析,。反應(yīng)后,，無(wú)需從反應(yīng)管中取出樣品即可對(duì)催化劑再次進(jìn)行化學(xué)吸附分析。通過(guò)這種對(duì)同一個(gè)樣品原位的分析,，消除空氣中氣體及水分等對(duì)樣品的污染，可詳細(xì)對(duì)比使用前和使用后的催化劑活性位點(diǎn)的變化,，可輕松獲得程序升溫分析和脈沖化學(xué)吸附數(shù)據(jù),，確保數(shù)據(jù)的完整性。

ICCS 包括：

高精度,、高靈敏度的熱導(dǎo)檢測(cè)儀（TCD）監(jiān)測(cè)流經(jīng)反應(yīng)管氣體濃度的變化
內(nèi)置 Peltier 冷阱控溫準(zhǔn)確可在 -20°C 至 65°C 內(nèi)工作以去除可冷凝的液體（例如,，在還原氧化物過(guò)程中產(chǎn)生的水）
兩個(gè)用于精確控制氣體的質(zhì)量流量控制器（通過(guò)反應(yīng)器系統(tǒng)進(jìn)行壓力控制）
交互式報(bào)告和控制系統(tǒng)，具有功能豐富且直觀的圖形用戶界面,，輕松進(jìn)行實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)和結(jié)果分析

支持：

在具有代表性的工藝條件下對(duì)樣品進(jìn)行安全,、高效和全面的表征，最高壓力可達(dá) 20 bar
表征功能包括脈沖化學(xué)吸附,、程序升溫還原（TPR）,、脫附（TPD）和氧化（TPO）以及物理吸附（可選）
在反應(yīng)前后以及再生后對(duì)同一催化劑樣品進(jìn)行多次表征，以研究反應(yīng),、失活和再生機(jī)制

規(guī)格

電氣

電壓	240 VAC 10 A,，單相
頻率	50 Hz 至 60 Hz
功率	10 A，單相

控制模塊：要求

處理器	Intel Core I3 或同等配置
操作系統(tǒng)	Windows 7/8/10（32/64 位）
內(nèi)存	4 GB
硬盤(pán)	500 GB

溫度系統(tǒng)

閥箱	最高可達(dá) 180 oC
加熱線路	最高可達(dá) 180 oC
冷阱	通過(guò) Peltier 系統(tǒng)可控制在 -15 ℃ 至 70 ℃

壓力系統(tǒng)

工作壓力	最高 20 bar(g)

選件

loop體積

0.5 cc 和 1.0 cc

氣體流速

質(zhì)量流量控制器數(shù)量	2
最高大進(jìn)氣壓力	30 bar
流量范圍	MFC1 范圍 1： 0 – 800 mlN/min 范圍 2： 800 – 3000mlN/minMFC2 范圍： 0 – 150 mlN/min

氣體輸送

要求	壓力為 30 bar,，通風(fēng)接口為 1/8 英寸氣瓶接頭不包括在內(nèi),，由用戶提供

實(shí)體規(guī)格

高度	445 mm（17.52 英寸）
寬度	545 mm（21.46 英寸）
長(zhǎng)度	500 mm（19.69 英寸）（不含電腦）
重量	40 kg（88.2 磅）

環(huán)境要求

溫度	工作溫度范圍為 10 oC 至 35 oC
濕度	10 % 至 60 %，無(wú)冷凝
建議	避免陽(yáng)光直射和直接靠近冷熱源

工作原理

ICCS 的工作流程是先將催化劑裝入反應(yīng)管,，通過(guò)程序升溫分析技術(shù) TPx 表征催化劑,；程序升溫還原（TPR）通常用于負(fù)載型金屬催化劑，而程序升溫脫附 (TPD) 是適合酸性或堿性催化劑的理想表征方法,。接著進(jìn)行脈沖滴定,，以確定活性位點(diǎn)的數(shù)量。通過(guò) TPx 和脈沖滴定可以獲得新鮮（未使用）催化劑在典型反應(yīng)條件下（特別是在高壓下）的樣品信息,。

進(jìn)行了上述初步表征后,，無(wú)需添加任何額外的催化劑或?qū)⒋呋瘎┺D(zhuǎn)移到其他設(shè)備，可繼續(xù)對(duì)同一樣品進(jìn)行反應(yīng)研究,。

使用過(guò)的催化劑可在失活后或直接在長(zhǎng)時(shí)間測(cè)試后采用與新鮮催化劑相同的測(cè)試條件下進(jìn)行 TPx 和脈沖滴定分析,。該策略無(wú)需從反應(yīng)管中取出催化劑即可對(duì)比催化劑使用前后的關(guān)鍵特性，如活性位點(diǎn)的數(shù)量,。

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