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當前位置：上海富瞻環(huán)?？萍加邢薰?/a>>>半導體行業(yè)儀器>> Aridus3 膜去溶霧化系統(tǒng)
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌CETAC/美國
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
更新時間：2025-01-09 18:37:06瀏覽次數(shù)：231次
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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領(lǐng)域 | 綜合 |
Aridus3 膜去溶霧化系統(tǒng)采用低流量,、微量霧化器,，只需極低量樣品就能分析所有元素，同時系統(tǒng)全部采用PFA惰性材料,，可應用于含HF酸的樣品,，廢液反抽技術(shù)進一步提高了穩(wěn)定性。
可移動的模塊化膜去溶設(shè)計,，拆裝和清洗方便
帶蓋保護的PFA霧化室,，避免靜電干擾
膜去溶技術(shù)，有效減少溶劑對ICP-MS的干擾,，顯著降低氧化物和氫化物水平
大大改善信號的穩(wěn)定性,，即使是有機溶劑（如甲醇）
提高ICP-MS的靈敏度4-10倍以上
可選配QuickWash3清洗裝置，有效抑制記憶效應
采用質(zhì)量流量控制器（MFC）精準控制氣體流量
可通過Aridus Link軟件遠程控制加熱溫度和氣體流速
實驗完成后可啟動氣體自動關(guān)閉程序,，大大節(jié)約氬氣成本
Aridus 3 膜去溶霧化系統(tǒng)：專門為ICP-MS進樣分析研發(fā)設(shè)計的進樣系統(tǒng),，其能夠最大增強10倍信號強度，同時能夠去除溶劑干擾,，極大地降低信號基線,，基本上消除氫氧化物干擾。
Aridus進樣系統(tǒng)是把微量霧化器和膜去溶技術(shù)相結(jié)合,，具有如下特性：
具有膜去溶的低流量（<100 µL/min）的微量霧化器
減少了溶劑對ICP-MS的干擾
家氮以增強ICP-MS的信號
所有于樣品相關(guān)的部件均為惰性材料制成
泵抽霧化室和溶劑蒸汽瓶的廢液
可與所有ICP-MS 相聯(lián)
可與ASX-100微量自動進樣器想配
Aridus進樣系統(tǒng)采用的低流量、氟材料的微量霧化器,，而其性能優(yōu)于高流量的常用的同心型霧化器,。以大約60 µL/min常用樣品提升量,，Aridus只需小于1mL的樣品就能分析所有的元素。同時Aridus全部采用惰性材料,，可應用于含HF酸的樣品,。采用泵抽出霧化室和溶劑蒸汽瓶的廢液進一步提高了穩(wěn)定性。
從霧化室出來的樣品氣溶膠進入加熱的氟材料隔膜,，用一反向氬“穿透氣"帶走從膜滲透出來的溶劑蒸汽,。
減小了ICP-MS的干擾
Aridus膜去溶能有效去除樣品溶劑蒸汽，顯著地減少諸如來自水中的氧化物,、氫化物的干擾,，下圖比較了標準氣動霧化器與Aridus系統(tǒng)的CeO/Ce 比率，該CeO/Ce比率從3% 減少為0.05%,。
其他水基的干擾ArH +（39）,、CO2+（44）、ArO+（56）有明顯的減少,，從而使Li,、Na、Mg,、K,、Ca、Fe的檢出限得到明顯改善,。
配備Aridus的ICP-MS檢出限：（在普通環(huán)境,、非冷焰的條件下，ELAN6000型ICP-MS）
Element | m/z | Detection Limit (ng/L) | Element | m/z | Detection Limit (ng/L) |
Li | 7 | 0.4 | K | 39 | 8 |
Na | 23 | 15 | Ca | 44 | 300 |
Mg | 24 | 6 | Fe | 56 | 10 |
增強ICP-MS的信號
在膜去溶后加如少量（5 到 20 mL/Min）的氮能提高分析信號,。
信號穩(wěn)定性
Aridus的1小時信號穩(wěn)定性：RSD<3%（用Mg24,、Co59、Ce140,、Pb208 4個通常調(diào)諧元素來測定）
Aridus的10小時信號穩(wěn)定性：RSD<5%（用Mg24,、Co59、Ce140,、Pb208 4個通常調(diào)諧元素來測定）
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