粒徑分析儀是一種測量,、呈現和報告特定粒子或者液滴群粒徑分布的分析儀。粒徑分析儀在過程開發(fā)以及顆粒系統(tǒng)質量控制方面起到重要作用,，可建立起高效的過程和取得高質量的最終產品,。
以往，采用取樣與離線粒徑分析儀（激光衍射,、動態(tài)光散射,、沉淀或篩余分析）進行產品質量控制,。但是無論是常見的取樣難題,、對于加快過程開發(fā)的更大壓力，還是對于一步到位過程的更大需求,，均需要開發(fā)出原位粒徑分析儀,。由于能夠測量過程中自然存在的顆粒，因此極大地提高了了解,、優(yōu)化和控制他們的顆粒和液滴系統(tǒng)的能力,。
采用FBRM技術的ParticleTrack
實時粒徑與粒數分析
采用FBRM®（聚焦光束反射測量）技術的ParticleTrack直接插入反應體系中，在全過程濃度下實時測量顆粒數量和粒徑,。隨著實驗條件的變化,，科學家可以持續(xù)監(jiān)控液滴、顆粒和顆粒結構,，為獲得具有所需屬性的一致顆粒提供確認信息,。基于探頭的ParticleTrack儀器采用FBRM技術,，這是原位過程測量的行業(yè)標準,。
采用 FBRM 技術 的 ParticleTrack G400 是直接插入到實驗室反應器中的探頭式儀器，以便在全工藝過程濃度下實時追蹤顆粒粒徑及粒數變化,。 隨著實驗條件的變化,，持續(xù)監(jiān)測顆粒、顆粒結構和液滴為科學家提供足夠證據以獲得具有所需屬性的一致顆粒,。
顆粒粒徑與粒數直接影響多相工藝中的性能,，包括結晶、乳化和絮凝,。 通過實時監(jiān)測顆粒粒徑與粒數,，科學家能夠使用基于證據的方法自信地了解、優(yōu)化和放大實驗過程。
在為離線分析進行采樣和制備時,，顆?？赡馨l(fā)生變化。 通過追蹤過程中自然存在的顆粒的粒徑與粒數的變化,，科學家能夠安全且無延遲地了解工藝過程 – 甚至是在極溫度與壓力條件下,。
隨著實驗條件的變化，通過連續(xù)監(jiān)測顆粒,，能夠確定過程參數對顆粒粒徑和粒數的影響,。 這種特的信息可用于設計能夠持續(xù)提供具有優(yōu)化特性的顆粒的過程。
實驗室中 ParticleTrack G400 的常見應用包括：
結晶工藝開發(fā)
表征乳化和液滴系統(tǒng)
優(yōu)化顆粒粒徑分布
ParticleTrack G400 的主要特征：
設計緊湊,，具有便攜性,，占用較小空間的實驗室
探頭可互換，可用于范圍廣泛的實驗室規(guī)模（10mL 至 2L）
與 OptiMax 和 EasyMax 合成工作站無縫集成,，進行較佳的實驗設置
iC FBRM 軟件,，進行快速、直觀的顆粒數據分析
ParticleTrack G400 比以前的梅特勒托利多 Lasentec FBRM 技術（S400 和 D600）有了重大改進,。
規(guī)格 - ParticleTrack G400
測量范圍
| 0.5 – 2000μm
0.5-2000um
|
溫度范圍（主機/現場裝置）
| 5 至35°C |
主機說明
| 實驗室主機 |
基座尺寸 (長x高x寬)
| 492 mm x 89 mm x 237 mm |
認證
| CE 認證,， 1 類激光， NRTL 認證,， CB Scheme 認證 |
電源要求
| 100-240VAC, 50/60Hz, 1.2A |
適用于
| 實驗室： EasyMax/OptiMax |
軟件
| iC FBRM |
掃描系統(tǒng)
| 電子掃描儀 |
掃描速度
| 2m/s （19mm探頭為1.2m/s） |
弦長選擇方法(CSM)
| Primary（精細）和 Macro（粗糙） |
探頭直徑
| 19mm探頭
9.5mm
14/9.5mm
|
探頭浸濕長度
| 400mm （用于 19mm 探頭）
206mm （用于 14/9.5mm 探頭）
91mm （用于 9.5mm 探頭）
|
探頭浸濕合金
| C22 |
測量視窗
| 藍寶石 |
標準窗口封條
| Kalrez® （標準 19mm）
TM（標準 14/9.5 ）
TM（標準9.5,14/9.5）
|
探頭/窗口選件
| TM 窗口（用于19mm 探頭的選件） |
額定壓力（探頭）
| 高達 100barg （自定義）
3barg （標準）
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額定溫度（探頭）
| +10 至 90°C （標準）
-10 至 90°C （Kalrez 和清洗）
-80 至 90°C （TM 和清洗）
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導管長度
| 3m [9.8ft] |
空氣要求
| 清洗歧管的最大出口壓力： 0.8barg [12psig]
清洗歧管的最大入口壓力： 8.6barg [125 psig]
低流量清洗（使用以避免冷凝物）
最大 流量： 5NL/min [0.2SCFM]
|
ParticleTrack型號
| ParticleTrack G400 |
實時研究顆粒粒徑與粒數
科學家將 ParticleTrack 探頭直接插入到過程流體中，以長時間連續(xù)監(jiān)測顆粒粒徑與粒數,，而無需采樣,。 這種獨的信息成為有效了解涉及晶體、顆粒和液滴的過程的基礎,。
借助 ParticleTrack將過程與顆粒系統(tǒng)相關聯
,，科學家可以定期確定過程參數如何影響顆粒系統(tǒng)。 可以確定過程參數對生長,、團聚,、破損和形狀變化等機制的影響，從而可以使用基于證據的方法對過程進行優(yōu)化和改進,。
創(chuàng)建符合目的的顆粒系統(tǒng)
科學家使用 ParticleTrack 來確定如何穩(wěn)定得到所需粒徑和粒數的顆粒產品,。 在研發(fā)、中試到投入生產的過程中,，通過選擇較佳的過程參數,，科學家可以以較低的總成本快速向市場提供高品質的顆粒產品。
監(jiān)測并糾正過程偏差
ParticleTrack 用于對生產中的既定過程進行監(jiān)測,、故障排除和改進,。 可以安全地監(jiān)測難以采樣的復雜過程,，確保一致地生產質量盡可能較高的顆粒。
具有 FBRM 技術的 ParticleTrack G400 未針對存在爆炸危險的位置進行評級,。
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