詳細(xì)介紹
小型甩帶機(jī) 高真空單輥旋淬系統(tǒng)產(chǎn)品概述:
系統(tǒng)主要由感應(yīng)熔煉真空室、爐門,、單輥旋淬裝置,、感應(yīng)熔煉機(jī)構(gòu)、電動直線進(jìn)給機(jī)構(gòu),、噴鑄系統(tǒng),、工作氣路、系統(tǒng)抽氣,、真空測量及電氣控制系統(tǒng),、安裝機(jī)架等各部分組成。
小型甩帶機(jī) 高真空單輥旋淬系統(tǒng)設(shè)備用途:
高真空單輥旋淬及噴鑄系統(tǒng)是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的專用設(shè)備,,該設(shè)備具有制備金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實(shí)驗(yàn)工作,,廣泛用于新型稀土永磁材料、非晶軟磁材料及納米材料科學(xué)的開發(fā)與研究,。
主要技術(shù)參數(shù)
1,、樣品最大熔煉量:20g
2、輥輪尺寸:φ200mmx40(不帶水冷)
3,、銅棍速度:0-6000r/min
4,、真空度:根據(jù)真空系統(tǒng)確定
5、熔煉電源功率:7.5KW;15Kw
6,、熔煉溫度:0-2000℃(根據(jù)坩堝與功率確定)
7,、熔煉坩堝:石英,石墨和氮化硼
8,、條帶寬度:1-10mm
9,、真空腔尺寸:300×300×480mm (L*W*H)
10、設(shè)備尺寸:620*560*780m(L*W*H)
11,、桌面式設(shè)計(jì),,占地空間小,特別節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源
工程條件
1,、設(shè)備總功率: 18Kw
2,、總進(jìn)線要求:三相,380V, 50Hz
3,、設(shè)備總重量:^ 220Kg
4,、設(shè)備占地面積: 1000*600*700mm (長*寬*高)
典型應(yīng)用
熔態(tài)單輥旋淬法制備條帶非晶材料,,以及真空噴鑄法制備大塊非晶材料。適用于大專院校,、科研院所及企業(yè)進(jìn)行新材料的科研