開啟式管式爐
在真空壓力下,，加在電感線圈的射頻電場,，使反應(yīng)室氣體發(fā)生輝光放電，在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子,。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量,，其本身溫度很高,，它與氣體分子相碰撞,，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上,，并發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成介質(zhì)膜,，副產(chǎn)物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走,，稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉（PECVD）,。

開啟式管式爐

在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場,，使反應(yīng)室氣體發(fā)生輝光放電,，在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量,，其本身溫度很高,，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化,。它們吸附在襯底上,，并發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成介質(zhì)膜，副產(chǎn)物從襯底上解吸,，隨主氣流由真空泵抽走,，稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉（PECVD)。

PECVD開啟式管式爐系統(tǒng)由開啟式管式爐、高真空分子泵系統(tǒng),、射頻電源系統(tǒng)及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成,，是實(shí)驗(yàn)室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜,，陶瓷薄膜,，復(fù)合薄膜等的理想選擇。

開啟式管式爐系統(tǒng)主要功能和特點(diǎn)：

1,、PECVD具有基本溫度低,、沉積速率快、成膜質(zhì)量好,、針孔較少,、不易龜裂等；

2,、PECVD工藝中由于等離子體中高速運(yùn)動(dòng)的電子撞擊到中性的反應(yīng)氣體分子，就會(huì)使中性反應(yīng)氣體分子變成碎片或處于激活的狀態(tài)容易發(fā)生反應(yīng),；

3,、借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體,，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜,；

4,、高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成，真空可達(dá)0.001Pa;

5,、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計(jì),，流量顯示儀等組成，實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制,；

6,、每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性,；

7,、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷,；

8,、管路采用世界*Swagelok卡套連接，不漏氣,；

9,、超溫、過壓時(shí)，自動(dòng)切斷加熱電源及流量計(jì)進(jìn)氣,，使用安全可靠,。