• 產(chǎn)品品牌: 布魯克 Bruker

• 產(chǎn)品產(chǎn)地: 德國

• 應(yīng)用領(lǐng)域:

• 產(chǎn)品簡介: 化學(xué)機(jī)械拋光研發(fā)規(guī)模的工藝研究和材料表征系統(tǒng)

TriboLab CMP 利用其前身產(chǎn)品 （Bruker CP-4） 超過 20 年的 CMP 領(lǐng)域?qū)I(yè)知識,，為業(yè)界的 TriboLab 平臺帶來了一套完整的功能,。基于本套設(shè)備產(chǎn)生的高精度和高可重復(fù)性使得在整個(gè) CMP 流程中能夠進(jìn)行高效的鑒別,、檢查和連續(xù)功能測試,。TriboLab CMP 是市場上能夠提供廣泛的拋光壓力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）,、摩擦,、聲發(fā)射和表面溫度測量的工藝開發(fā)工具，可準(zhǔn)確,、完整地描述 CMP 工藝和耗材,。

一、亮點(diǎn)

1）------小規(guī)模研發(fā)系統(tǒng)中的 ROI

此臺式工具可再現(xiàn)全尺寸晶圓拋光工藝條件,，而無需在生產(chǎn)設(shè)備上停機(jī),。

2）靈活------參數(shù)控制

允許量身定制的測試,，以加快材料開發(fā)，并精確優(yōu)化流程,。

3）專家------應(yīng)用和支持

我們與大型安裝基地合作多年,，為您的實(shí)驗(yàn)室提供專業(yè)知識。

二,、特點(diǎn)

1）特征------用于 CMP 的小型研發(fā)規(guī)模專業(yè)系統(tǒng)

布魯克的TriboLab CMP工藝和材料表征系統(tǒng)是專為晶圓拋光工藝而設(shè)計(jì),，是具有可靠、靈活和高效的臺式設(shè)備,。

      * 重現(xiàn)全尺寸晶圓拋光工藝條件,，無需在生產(chǎn)設(shè)備上停機(jī)；

      * 提供的測量可重復(fù)性和細(xì)節(jié)檢測,；

      * 允許在小樣品上進(jìn)行測試,，比全晶圓測試節(jié)省大量成本。

2）板載診斷系統(tǒng)可以更好地了解拋光過程

     * 比市場上任何其他系統(tǒng)提供更多的瞬態(tài)拋光過程的參數(shù),；

     * 從接觸拋光盤開始直至整個(gè)測試過程都能收集數(shù)據(jù),；

     * 通過更完整、更詳細(xì)的數(shù)據(jù)實(shí)現(xiàn)早期流程開發(fā)決策,。

3）具有靈活的樣品類型,、尺寸和安裝配置

     * 拋光任何平面材料，幾乎能使用任何修正盤,，任何拋光液,，和任何拋光墊；

     * 輕松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圓,；

     * 可同時(shí)安裝多個(gè)樣品,，測試更靈活。