產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
直讀光譜儀
XC3-CX-9000全譜直讀光譜儀是我公司引進(jìn)歐洲技術(shù),、采用*的zui先的進(jìn)CCD光譜儀技術(shù)開(kāi)發(fā)的專(zhuān)門(mén)針對(duì)有色金屬材料分析的產(chǎn)品,。該產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造,、機(jī)械,、汽車(chē)制造、航空航天,、兵器,、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制、爐前化驗(yàn),、中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn),。CX-9000全譜體積小、穩(wěn)定性好,、檢測(cè)限低,、分析速度快、運(yùn)行成本低,、操作維護(hù)方便,,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。
XC3-CX-9000光譜儀的優(yōu)勢(shì)
1,、*的第二代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)通道不受限制,;
2、升級(jí)多基體方便,,無(wú)須變動(dòng)增加硬件,;
3、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,,同一樣品不同的時(shí)間段分析,,可獲得良好的數(shù)據(jù)*性;
4,、體積小,、重量輕,移動(dòng)安裝方便;
5,、高集成度,、高可靠性、高穩(wěn)定性,;
6,、節(jié)電、節(jié)材,、能耗只是普通光譜儀50%;
7,、性價(jià)比高,;
主要特點(diǎn):
1、XC3-CX-9000全譜可測(cè)定各種有色金屬的各種元素,適用于多種金屬基體,,如:鋁基,、銅基、鋅基,。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;
2,、XC3-CX-9000全譜分析速度快捷,,20秒內(nèi)測(cè)完所有通道的元素成分。針對(duì)不同的分析材料,,通過(guò)設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線,,使儀器用zui短的時(shí)間達(dá)到*的分析效果;
3,、XC3-CX-9000全譜光學(xué)系統(tǒng)采用恒溫光室,,激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入光室,實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,,提高檢出限,,測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性,;
4,、XC3-CX-9000全譜特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),體積小,、重量輕,;
5、XC3-CX-9000全譜自動(dòng)光路校準(zhǔn),,光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描,,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線,,與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比,,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定,;
6,、XC3-CX-9000全譜開(kāi)放式的電極架設(shè)計(jì),可以調(diào)整的樣品夾,,便于各種形狀和尺寸的樣品分析,;
7、XC3-CX-9000全譜工作曲線采用標(biāo)樣,,預(yù)做工作曲線,,可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,,自動(dòng)扣除干擾,;
8、XC3-CX-9000全譜HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,,適應(yīng)各種不同材料,;
9、XC3-CX-9000全譜銅火花臺(tái)底座,,提高散熱性及堅(jiān)固性能,;
10、XC3-CX-9000全譜合理的氬氣氣路設(shè)計(jì),,使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短,,為用戶節(jié)省氬氣,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半,;
11,、XC3-CX-9000全譜采用鎢材料電極,電極使用壽命更長(zhǎng),,并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能,,清潔電極更加容易;
12,、XC3-CX-9000全譜高性能DSP及ARM處理器,,具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光室溫度、真空度,、氬氣壓力,、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況,;
13,、XC3-CX-9000全譜與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無(wú)關(guān),,使儀器具有更好的適用性,;
14、XC3-CX-9000全譜的核心器件全部*,,保證了儀器的品質(zhì),。
產(chǎn)品參數(shù)指標(biāo):
光學(xué)系統(tǒng) | |
光學(xué)結(jié)構(gòu) | 平場(chǎng)型光學(xué)系統(tǒng) |
光室溫度 | 自動(dòng)控制恒溫:35℃±0.5℃ |
波長(zhǎng)范圍 | 200-500nm |
光柵焦距 | 350 mm |
光譜寬度 | 25.4mm |
探測(cè)器 | 高性能線陣CCD |
激發(fā)臺(tái) | |
氣 體 | 沖氬式 |
氬氣流量 | 激發(fā)時(shí)3-5L/min, 待機(jī)時(shí):無(wú)須待機(jī)流量 |
電 極 | 鎢材噴射電極技術(shù) |
吹 掃 | 點(diǎn)擊自吹掃功能 |
補(bǔ) 償 | 熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì) |
分析間隙 | 樣品臺(tái)分析間隙:4mm |
激發(fā)光源 | |
類(lèi) 型 | HEPS數(shù)字化固態(tài)光源 |
頻 率 | 100-1000Hz |
放電電流 | 1-80A |
特殊技術(shù) | 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì) |
預(yù) 燃 | 高能預(yù)燃技術(shù) |
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) | |
處理器 | ARM處理器,,高速數(shù)據(jù)同步采集處理 |
接 口 | 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸 |
電源與環(huán)境要求 | |
輸 入 | 220VAC 50Hz |
功 率 | 分析時(shí)zui大700W,,待機(jī)狀態(tài)40W |
工作溫度 | 10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h) |
工作濕度 | 20-80% |
尺寸與重量 | |
主機(jī)尺寸 | 500*450*300 mm |
重 量 | 30Kg
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