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PJMRY-30T型晶片及薄膜轉(zhuǎn)移真空熱壓機(jī)
  • PJMRY-30T型晶片及薄膜轉(zhuǎn)移真空熱壓機(jī)

貨物所在地:北京北京市

更新時(shí)間:2024-09-09 15:38:46

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PJMRY-30T型晶片及薄膜轉(zhuǎn)移真空熱壓機(jī)是一款電動(dòng)真空平板式真空熱壓機(jī),,應(yīng)用于晶片的焊接或薄膜轉(zhuǎn)移處理,,真空度可以達(dá)到 10-2 torr兩個(gè)精密的溫控系統(tǒng)可設(shè)置 30 段升降溫程序,控溫精度為±1℃ ,500度恒溫時(shí)的溫度波動(dòng)±10℃ , ,分別獨(dú)立控制兩個(gè)加熱平臺(tái),。其可處理最大樣品尺寸為 300mm x 300mm ,。是材料成型和科研的重壓設(shè)備。

PJMRY-30T型晶片及薄膜轉(zhuǎn)移真空熱壓機(jī)

關(guān)鍵詞:真空,,熱壓機(jī),,溫度500℃

PJMRY-30T型晶片及薄膜轉(zhuǎn)移真空熱壓機(jī)

PJMRY-30T型晶片及薄膜轉(zhuǎn)移真空熱壓機(jī)是一款電動(dòng)真空平板式真空熱壓機(jī),,應(yīng)用于晶片的焊接或薄膜轉(zhuǎn)移處理,,真空度可以達(dá)到 10-2 torr兩個(gè)精密的溫控系統(tǒng)可設(shè)置 30 段升降溫程序,控溫精度為±1℃ ,500度恒溫時(shí)的溫度波動(dòng)±10℃ , ,分別獨(dú)立控制兩個(gè)加熱平臺(tái),。其可處理最大樣品尺寸為 300mm x 300mm ,。是材料成型和科研的重壓設(shè)備。

主要技術(shù)參數(shù):

1. 加熱臺(tái)尺寸:300mm x 300mm

2. 溫度:30段升溫程序控溫

3. 最高溫度:500℃

4. 最大壓力:30T

5. 熱壓對(duì)象:晶片的焊接或薄膜轉(zhuǎn)移

6. 放入樣品最大尺寸:長(zhǎng)*寬*高=300*300*30mm

7. 壓力控制系統(tǒng)配置電動(dòng)油壓機(jī):油缸直徑為 Φ 110 mm,; 油缸行程為 40 mm,;

在自動(dòng)加壓模式下,帶自動(dòng)恒壓功能,,恒壓精度: ±500N  (±50kg),。

壓力顯示范圍:100-30000Kg

壓力控制范圍:100-30000Kg

8. 恒壓時(shí)間設(shè)定范圍:1-9999min

9. 冷卻方式:水冷

真空度:抽氣速率:4L/S電機(jī)功率:400W    · 極限壓強(qiáng) 6X10-2Pa ·F-100/110 分子泵:

· 抽氣速率:100L/S  極限壓強(qiáng):6X10-6Pa · 啟動(dòng)時(shí)間:<2min

· 額定轉(zhuǎn)速:4300 轉(zhuǎn)/分 · 冷卻方式:風(fēng)冷/水冷 ·分子泵控制電源:

電壓:200~240V; · 輸出功率:250W   · 加速時(shí)間:3 分鐘

10. 外形尺寸:700mm(L) x800mm(W) x1640mm(H)

11. 重量: 510Kg



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