光刻膠是在微電子制造業(yè)中實現(xiàn)精細線路及圖形加工工藝的核心材料,。光刻技術利用光刻膠在輻射前后溶解度的差異來轉(zhuǎn)移圖案，不同光刻膠及曝光光源的組合會得到不同精細度的線路圖形,，目前分辨率高可達納米級,。根據(jù)應用領域分類，光刻膠可分為PCB 光刻膠,、LCD 光刻膠,、半導體光刻膠等。
近因為中興被美國政府制裁禁用美國電子芯片一事,，上上下下普及了一遍半導體技術,，也讓很多人明白了國產(chǎn)廠商在半導體領域原來這么落后，不僅下游的芯片研發(fā),、設計不行,，上游的半導體裝備、材料更是嚴重依賴進口,。
好在這種局面正在改變,，芯片生產(chǎn)所需要的光刻機技術現(xiàn)在已經(jīng)國產(chǎn)化了，公司攻克了另一項中國芯關鍵技術,。買回來的硅圓片經(jīng)過檢查無破損后即可投入生產(chǎn)線上,，前期可能還有各種成膜工藝，然后就進入到涂抹光刻膠環(huán)節(jié),。微影光刻工藝是一種圖形影印技術,，也是集成電路制造工藝中一項關鍵工藝,。
首先將光刻膠（感光性樹脂）滴在硅晶圓片上，通過高速旋轉(zhuǎn)均勻涂抹成光刻膠薄膜,，并施加以適當?shù)臏囟裙袒饪棠z薄膜,。涂好了光刻膠才能進入光刻機進行曝光，讓紫外線在光刻膠上生成掩膜中的電路圖,，必要的時候還要多重曝光,，反復使用光刻膠，因此沒有這一步電路是造不出來的,。
目前光刻膠上的參與者多是來自于美國,、日本、韓國等國家,，包括陶氏化學,、杜邦,、富士膠片,、信越化學、住友化學,、LG化學等等,，中國公司在光刻膠領域也缺少核心技術。
我國LCD 光刻膠巨大,，但卻高度依賴進口,。范圍內(nèi)，LCD 光刻膠占據(jù)所有光刻膠品種26.6% 的份額,，而我國LCD 光刻膠的產(chǎn)值僅占所有光刻膠種類的2.7%左右,。由于LCD 光刻膠行業(yè)技術壁壘高，主要由日本及韓國的廠商壟斷,，如JSR,、LG 化學、TOK,、CHEIL 等,。我資企業(yè)在該領域也已起步，目前北京科華,、蘇州瑞紅等可以生產(chǎn)一些彩色光刻膠,，上海新陽擬設立韓國子公司涉足黑色光刻膠領域。
半導體方面,，日美壟斷半導體光刻膠,，各類半導體光刻膠中，日美企業(yè)基本壟斷了g/i 線光刻膠,、KrF/ArF 光刻膠,，生產(chǎn)商主要有JSR,、信越化學工業(yè)、TOK,、陶氏化學等,。而我國半導體光刻膠生產(chǎn)企業(yè)主要有蘇州瑞紅、北京科華等,，兩家企業(yè)持續(xù)加大研發(fā)投入和創(chuàng)新,，有望持續(xù)半導體光刻膠國產(chǎn)化進程，逐漸降低我國對半導體光刻膠的進口依賴程度,。
光刻膠的技術復雜,，品種較多。根據(jù)其化學反應機理和顯影原理,，可分負性膠和正性膠兩類,。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負性膠；反之,，對某些溶劑是不可溶的,，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。利用這種性能,，將光刻膠作涂層,，就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形?；诟泄鈽渲幕瘜W結(jié)構,，光刻膠可以分為三種類型。
光聚合型
采用烯類單體,，在光作用下生成自由基,，自由基再進一步引發(fā)單體聚合，后生成聚合物,，具有形成正像的特點,。
光分解型
采用含有疊氮醌類化合物的材料，經(jīng)光照后,會發(fā)生光分解反應,由油溶性變?yōu)樗苄?，可以制成正性膠,。
光交聯(lián)型
采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其分子中的雙鍵被打開，并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián),，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構,，而起到抗蝕作用，這是一種典型的負性光刻膠,?？逻_公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類。
11
立即詢價
您提交后，專屬客服將第一時間為您服務