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刻蝕是用化學(xué)或物理的方法有選擇地從硅片上去除不需要材料的過程,??涛g是在硅片上進行圖形轉(zhuǎn)移的后主要工藝步驟,。半導(dǎo)體刻蝕工藝有兩種基本方法:干法刻蝕和濕法腐蝕,。干法刻蝕是亞微米尺寸下刻蝕器件的主要方法,,濕法腐蝕使用液體腐蝕的加工方法,,主要用于特征尺寸較大的情況。
按照被刻蝕材料來分,,干法刻蝕主要分成:金屬刻蝕,、介質(zhì)刻蝕和硅刻蝕??涛g也可以分成有圖形刻蝕和無圖形刻蝕,。有圖形刻蝕可用來在硅片上制作不同圖形,例如柵,、金屬互連線,、通孔、接觸孔和溝槽,。無圖形刻蝕用于剝離掩蔽層,。有圖形或無圖形刻蝕都可以分別采用干法刻蝕或濕法腐蝕。
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