| 直流濺射等離子實驗裝置 型號：ZH5502 | 貨號：ZH5502 |
| 產(chǎn)品簡介 裝置包括可拆卸的濺射腔體,、濺射靶臺,、真空抽氣系統(tǒng),、測量系統(tǒng)、進氣系統(tǒng)等部分組成,。 本實驗采用同軸二濺射結(jié)構(gòu),，在真空室內(nèi)以沉積材料為陰，加工樣品為陽,，工作期間兩間加直流電壓引起放電,，放電氣體中的離子被加速轟擊靶面，濺射粒子沉積在基片表面成膜,。 可以完成光學(xué)薄膜材料的制備及其光學(xué)特性的測量,、金屬薄膜的制備等實驗。通過這些實驗可讓實驗者理解直流濺射原理,，掌握直流濺射薄膜材料的方法,。 主要特點： 1 濺射靶臺和濺射靶距離可調(diào)節(jié)，研究在不同距離時對薄膜濺射的影響,； 2 濺射基片可進行加熱,，加熱溫度可控，研究基片溫度對薄膜濺射的影響,； 3 濺射氣壓,、濺射氣源流量可調(diào)節(jié)，研究不同氣壓,、氣源流量對薄膜濺射的影響,； 4 反應(yīng)腔體采用石英玻璃管，可直觀地觀察到濺射現(xiàn)象,； 5 工作氣體可調(diào)節(jié)換,，并可多路氣體混合工作。 主要參數(shù)及性能： 1,、濺射腔體外形尺寸：φ140mm×150mm,； 2、濺射靶臺：φ70mm×20mm,； 3,、濺射靶臺和濺射靶可調(diào)距離：10~50mm； 4,、基片加熱溫度可控范圍：室溫~80℃,； 5、濺射氣壓可調(diào)范圍：10Pa~200Pa; 6,、濺射電壓：0V~1000V連續(xù)可調(diào),； 7、濺射電流：0~200mA可測,； 8,、氣源流量可控范圍：6~60ml/min,；25~250ml/min； 9,、供電電源：AC220V,，50HZ； 10,、整機功率：1.5KW,。 |  |
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