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用途概述

HMDS真空鍍膜機(jī)化學(xué)名叫六甲基二硅胺烷（別名六甲基二硅氮烷）,，真空鍍膜機(jī)又稱HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng)，喆圖真空鍍膜機(jī)對(duì)箱體內(nèi)預(yù)處理過程的工作溫度,、工作壓力,、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制,，可以在硅片,、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝,。降低了光刻膠的用量,，所有工藝都在密閉的環(huán)境中進(jìn)行，沒有HMDS揮發(fā),，提高了安全性,。主要適用于硅片,、砷化鎵、陶瓷,、不銹鋼,、鈮酸鋰、玻璃,、藍(lán)寶石,、晶圓等材料，為基片在涂膠前改善表面活性,，增加光刻膠與基底的粘附力的設(shè)備,，也可用于晶片其它工藝的清洗，尤其在芯片研發(fā)和生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用更加普及,。

產(chǎn)品特點(diǎn)

l HMDS真空鍍膜機(jī)采用PLC工控自動(dòng)化系統(tǒng),，人機(jī)界面采用觸摸屏，可靠性高,，操作智能方便,；

l PLC控制系統(tǒng)具有自動(dòng)控溫、任意定時(shí),、超溫報(bào)警等,彩色觸摸屏顯示,控溫準(zhǔn)確可靠,；

l 智能化觸摸屏控制系統(tǒng)，可根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度,、真空度及每一程序時(shí)間,；

l 采用鋼化玻璃觀察窗，監(jiān)測(cè)方便,，一體成型的硅橡膠門封,，確保箱內(nèi)密封性好；

l 外殼和加熱管均采用不銹鋼材質(zhì),，內(nèi)膽不銹鋼,，無易燃易爆裝置，無發(fā)塵材料,；

l 以蒸汽的形式涂布到晶片表面,，液態(tài)涂布均勻，可一次處理4盒以上的晶片,，節(jié)省藥液,。

l 去水烘烤和增粘（疏水）處理一機(jī)完成無需轉(zhuǎn)移，有效規(guī)避HMDS泄露的風(fēng)險(xiǎn),；

l 氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì),，使真空箱密封性好，確保HMDS氣體不外漏,；

l 多余的蒸汽（尾氣）由真空泵抽出,，排放到專用廢氣收集管道，確保安全以及環(huán)保,。

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性

將涂到晶片表面后,，經(jīng)真空鍍膜機(jī)加溫后可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物,，

它可將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，起著耦合作用，可更好與光刻膠結(jié)合,，保證涂膠工藝不影

響光刻效果和顯影,。

本身是表面改性，不會(huì)涂在圓片表面,，上面涂膠不影響的處理效果,。

處理后需要冷卻后涂膠，建議4小時(shí)內(nèi)完成涂膠,。

真空鍍膜機(jī)預(yù)處理程序

HMDS(六甲基二硅胺)是黃光區(qū)最毒的東西,，真空鍍膜機(jī)預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_真空泵抽真空，待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一高真空度后,，開始充入氮?dú)?，充到一定低真空度后，再次進(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^程,，到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后,，開始保持一段時(shí)間，使硅片充分受熱,，減少硅片表面的水分,。然后再次開始抽真空，充入通過氮?dú)獾臍怏w,，在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后,，停止充入藥液，進(jìn)入保持階段,，使硅片充分與反應(yīng),。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后，再次開始抽真空,。

充入氮?dú)?，完成整個(gè)作業(yè)過程。

技術(shù)參數(shù)：