目錄:上海喆圖科學儀器有限公司>>HMDS真空鍍膜機>>ZDM系列真空鍍膜機>> ZDM系列真空鍍膜機
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè) |
用途概述
ZDM系列真空鍍膜機HMDS化學名叫六甲基二硅胺烷（別名六甲基二硅氮烷）,，真空鍍膜機又稱HMDS基片預處理系統(tǒng)，喆圖真空鍍膜機對箱體內預處理過程的工作溫度,、工作壓力,、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制,，可以在硅片,、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量,，所有工藝都在密閉的環(huán)境中進行,，沒有HMDS揮發(fā)，提高了安全性,。主要適用于硅片,、砷化鎵、陶瓷,、不銹鋼,、鈮酸鋰、玻璃,、藍寶石,、晶圓等材料,，為基片在涂膠前改善表面活性，增加光刻膠與基底的粘附力的設備,，也可用于晶片其它工藝的清洗,，尤其在芯片研發(fā)和生產(chǎn)領域應用更加普及。
產(chǎn)品特點
l ZDM系列真空鍍膜機采用PLC工控自動化系統(tǒng),，人機界面采用觸摸屏,，可靠性高，操作智能方便,；
l PLC控制系統(tǒng)具有自動控溫,、任意定時、超溫報警等,彩色觸摸屏顯示,控溫準確可靠,；
l 智能化觸摸屏控制系統(tǒng),，可根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度,、真空度及每一程序時間,；
l 采用鋼化玻璃觀察窗，監(jiān)測方便,，一體成型的硅橡膠門封,，確保箱內密封性好；
l 外殼和加熱管均采用不銹鋼材質,，內膽不銹鋼,，無易燃易爆裝置，無發(fā)塵材料,；
l 以蒸汽的形式涂布到晶片表面,，液態(tài)涂布均勻，可一次處理4盒以上的晶片,，節(jié)省藥液,。
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去水烘烤和增粘（疏水）處理一機完成無需轉移，有效規(guī)避HMDS泄露的風險,；
l HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,，使真空箱密封性好，確保HMDS氣體不外漏,；
l 多余的HMDS蒸汽（尾氣）由真空泵抽出,，排放到專用廢氣收集管道，確保安全以及環(huán)保,。
HMDS預處理系統(tǒng)的必要性
將HMDS涂到晶片表面后,，經(jīng)真空鍍膜機加溫后可反應生成以硅氧烷為主體的化合物，
它可將硅片表面由親水變?yōu)槭杷鹬詈献饔?，可更好與光刻膠結合,，保證涂膠工藝不影
響光刻效果和顯影。
HMDS本身是表面改性,，不會涂在圓片表面,，HMDS上面涂膠不影響HMDS的處理效果。
HMDS處理后需要冷卻后涂膠,，建議4小時內完成涂膠,。
HMDS真空鍍膜機預處理程序
HMDS(六甲基二硅胺)是黃光區(qū)最毒的東西，真空鍍膜機預處理程序為：打開真空泵抽真空,，待腔內真空度達到某一高真空度后,，開始充入氮氣，充到一定低真空度后,，再次進行抽真空,、充入氮氣的過程，到達設定的充入氮氣次數(shù)后,，開始保持一段時間，使硅片充分受熱,，減少硅片表面的水分,。然后再次開始抽真空，充入通過氮氣的HMDS氣體,，在到達設定時間后,，停止充入HMDS藥液，進入保持階段,，使硅片充分與HMDS反應,。當達到設定的保持時間后，再次開始抽真空,。
充入氮氣,，完成整個作業(yè)過程。
技術參數(shù)：
型號 | ZDM-90V | ZDM-125V | ZDM-215V |
電源電壓 | AC 220V 50Hz | ||
控制系統(tǒng) | PLC智能控制 | ||
儀表控制 | 彩色觸摸屏 | ||
控溫范圍 | RT+10-200℃ | ||
溫度分辨率 | 0.1℃ | ||
溫度波動度 | ±0.1 | ||
真空度 | ≤133pa | ||
內膽尺寸 | 450*450*450 | 500*550*500 | 550*550*650 |
容積 | 90L | 125L | 210L |
載物托架 | 2層 | 3層 | 3層 |
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