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水熱合成實驗

水熱合成法是指溫度為100 ～ 1000 ℃,、壓力為1MPa ～ 1GPa 條件下利用水溶液中物質(zhì)化學(xué)反應(yīng)所進行合成的方法,。在亞臨界和超臨界水熱條件下，由于反應(yīng)處于分子水平,，反應(yīng)活性提高,，因而水熱反應(yīng)可以替代某些高溫固相反應(yīng)。又由于

水熱反應(yīng)的均相成核及非均相成核機理與固相反應(yīng)的擴散機制不同,，因而可以創(chuàng)造出其它方法無法制備的新化合物和新材料,。水熱合成可分為：水熱氧化，水熱沉淀,，水熱合成,，水熱還原，水熱分解,，水熱結(jié)晶等

安全

壓力消解罐采用高品質(zhì)不銹鋼材質(zhì)和高密度PTFE內(nèi)襯,，確保實驗操作的可靠性和安全性。

* 所有容器均經(jīng)過 TUV 測試認(rèn)證

* 操作壓力可達 200bar

* 溫度可達 250℃,，實驗周期可達數(shù)天

* 爆破片確保操作人員的安全

* 密封技術(shù)確保易揮發(fā)物質(zhì)不會流失和擴散

* 當(dāng)消解罐被打開時,，控制壓力將會釋放

內(nèi)襯技術(shù)

根據(jù)容積不同，TFM-PTFE 高密度內(nèi)襯從50ml 到250ml 范圍可選,，安全耐腐蝕,，使用壽命長，操作簡單便

可靠的反應(yīng)控制

高精度溫度控制器確保參數(shù)統(tǒng)一監(jiān)控,，該控制器可以進行升溫程序編程,。Chemtron 消解罐可與實驗室日常工作結(jié)合起來，進行隔夜實驗測試,，避免樣品轉(zhuǎn)移帶來的麻煩

加熱

Chemtron 針對不同體積的消解罐,，可提供不同數(shù)量孔位的加熱裝置，可支持12 位消解罐同時進行溫度控制

應(yīng)用

制備超細顆粒,，無機薄膜，微孔材料，超臨界合成等工藝研究難消解樣品的高溫高壓消解

技術(shù)參數(shù)