TXRF(全反射X熒光)分析原理是基于X熒光能譜法,，但與X射線能譜形成對比的是,，傳統(tǒng)能譜采用原級X光束以45°角轟擊樣品，而TXRF采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射,。由于采用此種近于切線方向的入射角,，原級X光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后,，可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發(fā)生，同時減小了載體的背景和噪聲,，亦可減少樣品使用量,。
TX2000 將全反射和傳統(tǒng)的能量色散集成在同一臺儀器上，創(chuàng)新光學(xué)編碼器的步進(jìn)電機(jī),，角度測量,，軟件控制Mo/W靶可自由切換，采用高分辨,、低背景的帕爾貼控溫硅漂移檢測器,。
全反射X熒光光譜儀應(yīng)用范圍
TX2000 可檢測從鈉Na到钚Pu所有元素含量，可進(jìn)行痕量或超痕量元素分析(ppt或pg),，廣泛的應(yīng)用在環(huán)境分析(水,、灰塵、沉積物,、大氣懸浮物),，制藥分析(生物體液和組織樣品中的有害元素)，法醫(yī)學(xué)(微小證據(jù)分析),，化學(xué)純度分析(酸,、堿、鹽,、溶劑,、水、超純試劑),，油品分析(原油,、輕質(zhì)油、燃料油),，染料分析(墨水,、油漆、粉末),，半導(dǎo)體材料分析(揮發(fā)相分解),，核材料工業(yè)(放射性元素分析),。
全反射X熒光光譜儀主要特點(diǎn)
1、單內(nèi)標(biāo)校正,，有效簡化了定量分析,，無基體影響；
2,、對于任何基體的樣品可單獨(dú)進(jìn)行校準(zhǔn)和定量分析,；
3、多元素實時分析,，可進(jìn)行痕量和超痕量分析,；
4、不受樣品的類型和不同應(yīng)用需求影響,；
5,、*的液體或固體樣品的微量分析，分析所需樣品量??；
6、優(yōu)良的檢出限水平,，元素分析范圍從鈉覆蓋到钚,；
7、動態(tài)線性范圍,；
8,、無需任何化學(xué)前處理，無記憶效應(yīng),；
9,、非破壞性分析，運(yùn)行成本低廉,。
根據(jù)分光系統(tǒng)的不同,，XRF光譜儀主要有波長色散型(WDXRF)和能量色散型(EDXRF)兩種，二者結(jié)構(gòu)示意如下圖：
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