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北京長恒榮創(chuàng)科技有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第6年

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C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機(jī)

參   考   價(jià): 99

訂  貨  量: ≥1 臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品       牌crisoptical/長恒榮創(chuàng)

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

更新時(shí)間:2024-09-09 10:57:31瀏覽次數(shù):467次

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光源 超高壓球形汞燈 照明范圍 φ110mm
主機(jī)電源 220V 尺寸 700(長)×700(寬)×960(高)
重量 100kg
C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機(jī)主要用于中小規(guī)模集成電路,、半導(dǎo)體元器件,、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn),,找平力小,、使本機(jī)適合硅片、玻璃片,、陶瓷片,、銅片、不銹鋼片,、寶石片等的曝光,。有三種版夾盤供選擇,能真空吸附5“×5“或4“×4“方形掩版(2.5“×2.5“),,版的厚度無特殊要求1.5~3mm皆可,。分別用于φ4、φ3,、φ2基片的曝光,。基片厚度0.1~1mm都可以,。

C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機(jī)

C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機(jī)主要用途


 主要用于中小規(guī)模集成電路,、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn),。


 由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn),,找平力小、使本機(jī)適合硅片,、玻璃片,、陶瓷片、銅片,、不銹鋼片,、寶石片等的曝光。


 


C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機(jī)主要性能指標(biāo)


1,、有三種版夾盤供選擇,,能真空吸附5"×5"或4"×4"方形掩版(2.5"×2.5"),版的厚度無特殊要求1.5~3mm皆可,。分別用于φ4,、φ3、φ2基片的曝光,?;穸?.1~1mm都可以,。


 


2、曝光


(1)光源采用GCQ350型超高壓球形汞燈,。


(2)照明范圍:≤φ110mm


(3)光的不均勻性:φ100mm范圍內(nèi)≤±4%


(4)可使用的波長:G線,、H線,、I線的組合,。(即3500~5000埃)


(5)成像面照明:使用UV—A型表測(cè)量,光照度≤15毫瓦/厘米2左右(采用3650測(cè)頭測(cè)量),,光學(xué)結(jié)構(gòu)原理為16面反射式多點(diǎn)光源,。


 


3、采用進(jìn)口時(shí)間繼電器(該繼電器可從0.1秒~999.9秒內(nèi)任意設(shè)定)控制“真空快門",。動(dòng)作準(zhǔn)確可靠,。


 


4、該機(jī)為雙面接觸式曝光機(jī),,該機(jī)特制的翻版機(jī)構(gòu),,能消除基片楔形誤差,保證上下二塊掩膜版對(duì)基片上下兩面良好的接觸,,從而保證基片上下兩面的曝光質(zhì)量,。


 


5、分辨率估量:如果用戶的“版",、“片"精度符合國家規(guī)定,、環(huán)境、溫度,、濕度以及房間凈化得到嚴(yán)格控制,,采用進(jìn)口“正性"光刻膠,且勻膠厚度和均勻度也得到嚴(yán)格控制的話,,本機(jī)曝光最小分辨可達(dá)0.002mm,,建議使用在≥0.003mm以上。


 


6,、對(duì)準(zhǔn):


    A,、 兩個(gè)單視場變倍顯微鏡加二個(gè)CCD攝像機(jī)加14"顯示器。


    1)二個(gè)單視場變倍顯微鏡的變倍范圍0.7X~4.5X.


    2)二個(gè)CCD攝像頭:平面對(duì)角線尺為1/3",。


    3)采用19"液晶顯示器,,總放大倍數(shù)為0.7×42~4.5×42=30倍~189倍。


    B,、對(duì)準(zhǔn)臺(tái)


   首先真空吸附下掩版(注意掩版四個(gè)邊,,平行于真空吸下掩版的裝置四個(gè)邊),然后將上掩版放在下掩版上,,轉(zhuǎn)動(dòng)曝光頭位置,,使兩個(gè)單視場顯微鏡對(duì)準(zhǔn)上掩版,,調(diào)好左右兩個(gè)顯微鏡的焦距,從監(jiān)視屏上看清兩個(gè)像,。調(diào)整下掩版X,、Y和Q轉(zhuǎn)動(dòng),使上掩版上的圖像或標(biāo)記線,,顯視到顯示器屏的左右分開的中間位置,,然后真空吸附上掩版。上掩版一旦吸附后,,再也不能移動(dòng),。通過下掩版進(jìn)行X、Y和Q移動(dòng)后,,實(shí)現(xiàn)上下掩版的對(duì)準(zhǔn)工作,。


 上下掩版的對(duì)準(zhǔn)精度≤±0.001mm。


 該機(jī)的主要優(yōu)點(diǎn)是,,有一個(gè)上掩版相對(duì)于下掩版的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),,該機(jī)構(gòu)翻轉(zhuǎn)角度≥90o,甚至可達(dá)180o,,不僅便于上下基片,,而且能保證上下掩版對(duì)應(yīng)基片上下面的良好接觸。(能補(bǔ)償基片的楔形誤差),,又能保證上下掩版對(duì)準(zhǔn)了的圖形重合到原來位置,,其誤差≤5μm。


 這一點(diǎn)很重要,,也就是說上下掩版對(duì)準(zhǔn)后,,不管怎么翻動(dòng),怎樣上下基片,,上下掩版的圖形仍然是對(duì)準(zhǔn)的,!這對(duì)大批量生產(chǎn)的廠家來說很重要,只要上下掩版對(duì)準(zhǔn)后,,你就可以不斷地對(duì)基片進(jìn)行雙面曝光,,曝若干片以后,你如果想觀察上下掩版是否仍然對(duì)準(zhǔn)的,,你只要轉(zhuǎn)動(dòng)曝光頭,,使顯微鏡對(duì)準(zhǔn)版,你就能在顯示器上看見,,兩個(gè)版的對(duì)準(zhǔn)情況,。


X、Y調(diào)整范圍±4mm


Q轉(zhuǎn)角≤±5o


 


7,、設(shè)備所需能源:


主機(jī)電源220V   50HZ   功耗≤1.5KW


配有一臺(tái)真空泵,,真空泵電源220V


 


8,、尺寸和重量:


尺寸:700(長)×700(寬)×960(高)


重量≤100kg


機(jī)體放在專用工作臺(tái)上


工作臺(tái)  750(長)×720(寬)×640(高)  高度可調(diào)范圍0~30mm


重量70kg (工作臺(tái)后側(cè)裝有電氣部分)


總重量≤170kg


 


9,、雙面對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的組成


    A,、 主機(jī)


    1)主機(jī)(含機(jī)體和工作臺(tái))


  2)機(jī)體上安裝二臺(tái)單視場可變倍數(shù)顯微鏡,二臺(tái)CCD攝像頭,,一臺(tái)19"顯示器,,一套很有特色的上下翻版裝置,,二個(gè)16面反射鏡式多點(diǎn)光源曝光頭。


    B,、 附件:(用戶提出后,,可配以下附件)


    1)3"上下掩版吸版裝置


    2)3"上下翻板裝置


    3)一個(gè)350瓦高壓球形汞燈


    4)真空泵一臺(tái)


    5)?8(外徑)高壓用塑料管15m(用于真空管)一根


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