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X射線(xiàn)光電子能譜技術(shù)的用途主要體現(xiàn)在哪些方面,?

閱讀:965        發(fā)布時(shí)間:2022-4-25
X射線(xiàn)光電子能譜 (XPS),,也被稱(chēng)為化學(xué)分析電子能譜 (ESCA),是分析材料表面化學(xué)性質(zhì)的一項(xiàng)技術(shù),。具有靈敏度高,、分辨率高、元素分析全(除H和He),、為非破壞性分析,、深度剖析、小于10 nm薄膜分析(角分辨),、元素化學(xué)態(tài)分布(XPS成像技術(shù))等特點(diǎn),。

X射線(xiàn)光電子能譜用途:

1、可定性分析,,根據(jù)所測(cè)得譜的位置和形狀來(lái)得到有關(guān)樣品的組分,、化學(xué)態(tài)、表面吸附,、表面價(jià)電子結(jié)構(gòu),、原子和分子的化學(xué)結(jié)構(gòu)、化學(xué)鍵合情況等信息,。

2,、可定量分析,以能譜中各峰強(qiáng)度的比值為基礎(chǔ)進(jìn)行分析,,把所測(cè)到的信號(hào)強(qiáng)度轉(zhuǎn)變成元素的含量,,即將譜峰面積轉(zhuǎn)變成相應(yīng)元素的含量。

3,、可深度剖析,,由于樣品本身的層狀結(jié)構(gòu)如氧化,、鈍化等原因?qū)е聵悠吩谏疃确较蛏匣瘜W(xué)狀態(tài)的不同。通過(guò)利用氬離子槍對(duì)樣品表面進(jìn)行氬離子濺射剝離,,控制合適的濺射強(qiáng)度及濺射時(shí)間,,將樣品表面刻蝕一定深度,然后進(jìn)行取譜分析,。

4,、可角分辨電子能譜分析,改變樣品表面與入射光束間的角度,,即可改變?nèi)肷涔獾臋z測(cè)深度,,使得檢測(cè)深度變淺,這樣來(lái)自最表層的光電子信號(hào)相對(duì)較深層的會(huì)大大增強(qiáng),。利用這一特性,可以對(duì)超薄樣品膜表面的化學(xué)信息進(jìn)行有效地檢測(cè),,從而研究超薄樣品化學(xué)成分的縱向分布,。





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