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薄膜沉積控制儀不斷的展現(xiàn)自己
系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、旋轉(zhuǎn)基片架,、光加熱系統(tǒng),、電子槍及電子槍電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀,、工作氣路,、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng),、安裝機(jī)臺等部分組成,。體現(xiàn)立方整體外觀,適用于超凈間間壁隔離安裝,。
配以的控制系統(tǒng),,可以在工程塑料,玻璃和金屬表面鍍制單質(zhì)金屬膜,、復(fù)合膜,、電磁屏蔽膜、ITO膜,。生產(chǎn)過程全部自動,,薄膜沉積控制儀可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)率的磁控濺射鍍膜。生產(chǎn)線可以根據(jù)需要配置多個(gè)真空室,,采用立式或臥式,,每個(gè)真空室根據(jù)需要配置不同的靶材,室與室之間采用獨(dú)立的真空抽氣系統(tǒng),,可以隨意調(diào)節(jié)各個(gè)真空室的氣體參數(shù),,鍍制不同的膜層,可以滿足工業(yè)化連續(xù)生產(chǎn)的需要,。
該膜可以很容易地保持其形狀,,即使在復(fù)雜的基表面,其的粘合強(qiáng)度,自粘性和濕應(yīng)用的方法,,使建筑安全和環(huán)保,,泄漏很少一切甚至膜破裂,其良好的蠕變變形的評價(jià),,該膜可用于鋼結(jié)構(gòu)屋面的臨時(shí)修復(fù),。晶體控制振蕩電路這樣當(dāng)晶體在鍍膜過程中的電特性改變時(shí),振蕩電路變得不穩(wěn)定和“跳躍”至另一個(gè)諧振頻率或*故障,,導(dǎo)致不正確的膜厚測量值,。