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掃描電子顯微鏡的主要參數(shù)有哪些,？
掃描電子顯微鏡是一種常用的顯微鏡產(chǎn)品,，主要是利用二次電子信號(hào)成像來(lái)觀察樣品的表面形態(tài),，即用極狹窄的電子束去掃描樣品,。掃描電子顯微鏡的主要參數(shù)有哪些呢?今天小編就來(lái)具體介紹一下，希望可以幫助用戶(hù)更好的應(yīng)用產(chǎn)品,。
放大率
與普通光學(xué)顯微鏡不同,，在SEM中，是通過(guò)控制掃描區(qū)域的大小來(lái)控制放大率的,。如果需要更高的放大率,，只需要掃描更小的一塊面積就可以了。放大率由屏幕/照片面積除以?huà)呙杳娣e得到,。
所以,，SEM中，透鏡與放大率無(wú)關(guān)。
場(chǎng)深
在SEM中,，位于焦平面上下的一小層區(qū)域內(nèi)的樣品點(diǎn)都可以得到良好的會(huì)焦而成象,。這一小層的厚度稱(chēng)為場(chǎng)深，通常為幾納米厚,，所以,，SEM可以用于納米級(jí)樣品的三維成像。
成象
次級(jí)電子和背散射電子可以用于成象,，但后者不如前者,，所以通常使用次級(jí)電子。
表面分析
歐革電子,、特征X射線(xiàn),、背散射電子的產(chǎn)生過(guò)程均與樣品原子性質(zhì)有關(guān)，所以可以用于成分分析,。但由于電子束只能穿透樣品表面很淺的一層(參見(jiàn)作用體積),，所以只能用于表面分析。
表面分析以特征X射線(xiàn)分析zui常用,，所用到的探測(cè)器有兩種：能譜分析儀與波譜分析儀,。前者速度快但精度不高，后者非常,，可以檢測(cè)到“痕跡元素”的存在但耗時(shí)太長(zhǎng),。
工作距離
工作距離指從物鏡到樣品zui高點(diǎn)的垂直距離。
如果增加工作距離,，可以在其他條件不變的情況下獲得更大的場(chǎng)深,。
如果減少工作距離，則可以在其他條件不變的情況下獲得更高的分辨率,。
通常使用的工作距離在5毫米到10毫米之間,。
放大率
與普通光學(xué)顯微鏡不同,，在SEM中，是通過(guò)控制掃描區(qū)域的大小來(lái)控制放大率的,。如果需要更高的放大率,，只需要掃描更小的一塊面積就可以了。放大率由屏幕/照片面積除以?huà)呙杳娣e得到,。
所以,，SEM中，透鏡與放大率無(wú)關(guān)。
場(chǎng)深
在SEM中,，位于焦平面上下的一小層區(qū)域內(nèi)的樣品點(diǎn)都可以得到良好的會(huì)焦而成象,。這一小層的厚度稱(chēng)為場(chǎng)深，通常為幾納米厚,，所以,，SEM可以用于納米級(jí)樣品的三維成像。
成象
次級(jí)電子和背散射電子可以用于成象,，但后者不如前者,，所以通常使用次級(jí)電子。
表面分析
歐革電子,、特征X射線(xiàn),、背散射電子的產(chǎn)生過(guò)程均與樣品原子性質(zhì)有關(guān)，所以可以用于成分分析,。但由于電子束只能穿透樣品表面很淺的一層(參見(jiàn)作用體積),，所以只能用于表面分析。
表面分析以特征X射線(xiàn)分析zui常用,，所用到的探測(cè)器有兩種：能譜分析儀與波譜分析儀,。前者速度快但精度不高，后者非常,，可以檢測(cè)到“痕跡元素”的存在但耗時(shí)太長(zhǎng),。
工作距離
工作距離指從物鏡到樣品zui高點(diǎn)的垂直距離。
如果增加工作距離,，可以在其他條件不變的情況下獲得更大的場(chǎng)深,。
如果減少工作距離，則可以在其他條件不變的情況下獲得更高的分辨率,。
通常使用的工作距離在5毫米到10毫米之間,。