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特點：

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· 數(shù)字及圖形化工藝參數(shù)控制及實時顯示

· 支持6＂/8＂/12＂ wafer的去膠清洗

· 安全及異常報警功能

· Diener 等離子去膠機 Tetra16多語言：法語,、英語，德語,，中文

 用途：

· 去除光刻膠

· 干刻或濕刻處理前或后

· SU-8或其他環(huán)氧基樹脂

· MEMS制造中去除犧牲層

·去除光刻膠,，SU-8，環(huán)氧樹脂

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