低溫等離子處理設(shè)備常應(yīng)用于惡臭氣體治理,，具有處理效果好(幾乎可以處理目前常見的各種惡臭氣體)、運(yùn)行費(fèi)用低廉,、無二次污染,、運(yùn)行穩(wěn)定操作管理簡便即開即用等優(yōu)點(diǎn)。該技術(shù)可廣泛應(yīng)用于石油化工,、制藥、食品,、污水處理廠,、涂料、皮革加工,、感光材料,、汽車制造等諸多行業(yè)有機(jī)廢氣的治理以及采用其它方法很難解決的廢氣的治理。低溫等離子體產(chǎn)生方式主要有兩種放電方式,，分別是電暈形式和戒指阻擋形式,。根據(jù)處理廢氣的濃度和所含污染物的類型來選擇合適的放電方式。
隨著科技的進(jìn)步,，低溫等離子處理設(shè)備在現(xiàn)代工業(yè)上高速發(fā)展,，選擇它原因也很簡單，它的操作簡單,、工作效率高,、低成本、環(huán)保且去膠后表面光潔,。那么,，設(shè)備在使用中有哪些因素要注意？
一,、調(diào)整合適的頻率：頻率越高,，氧越易電離構(gòu)成等離子體。頻率太高,，以致電子振幅比其平均自由程還短,，則電子與氣體分子磕碰概率反而減少，使電離率降低,。
二,、調(diào)整合適功率：關(guān)于必定量的氣體，功率大,，等離子體中的的活性粒子密度也大,，去膠速度也快；但當(dāng)功率增大到必定值,，反響所能耗費(fèi)的活性離子到達(dá)飽滿,，功率再大,，去膠速度則無顯著添加。由于功率大,，基片溫度高,，所以應(yīng)根據(jù)技術(shù)需求調(diào)理功率。
三,、調(diào)整適合的真空度：恰當(dāng)?shù)恼婵斩?，可使電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程變大，因而從電場取得的能量就大,，有利電離,。別的當(dāng)氧氣流量必守時(shí)，真空度越高,，則氧的相對(duì)份額就大,，發(fā)生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過高,，活性粒子濃度反而會(huì)減小,。
四、氧氣流量的調(diào)整：氧氣流量大,，活性粒子密度大,，去膠速率加速；但流量太大,，則離子的復(fù)合概率增大,，電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程縮短，電離強(qiáng)度反而降低,。若反響室壓力不變,，流量增大，則被抽出的氣體量也添加,，其間尚沒參與反響的活性粒子抽出量也隨之添加,，因而流量添加對(duì)去膠速率的影響也就不甚顯著。
關(guān)于低溫等離子處理設(shè)備的介紹就到這里了,，希望這篇文章能對(duì)你有所幫助,！
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