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誰(shuí)知道等離子去膠機(jī)的原理,？

閱讀：3886 發(fā)布時(shí)間：2021-7-22

等離子去膠法,，去膠氣體為氧氣。其工作原理是將硅片置于真空反應(yīng)系統(tǒng)中,，通入少量氧氣,，加1500 V高壓，由高頻信號(hào)發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號(hào),，使石英管內(nèi)形成強(qiáng)的電磁場(chǎng),，使氧氣電離，形成氧離子,、活化的氧原子,、氧分子和電子等混合物的等離子體的輝光柱?；罨酰ɑ顫姷脑討B(tài)氧）可以迅速地將聚酰亞胺膜氧化成為可揮發(fā)性氣體,，被機(jī)械泵抽走，這樣就把硅片上的聚酰亞胺膜去除了,。等離子去膠的優(yōu)點(diǎn)是去膠操作簡(jiǎn)單,、去膠效率高,、表面干凈光潔、無(wú)劃痕,、成本低,、環(huán)保.

電介質(zhì)等離子體刻蝕設(shè)備一般使用電容耦合等離子體平行板反應(yīng)器。在平行電極反應(yīng)器中,，反應(yīng)離子刻蝕腔體采用了陰極面積小,，陽(yáng)極面積大的不對(duì)稱設(shè)計(jì)，被刻蝕物是被置于面積較小的電極上,。在射頻電源所產(chǎn)生的熱運(yùn)動(dòng)作用下帶負(fù)電的自由電子因質(zhì)量小,、運(yùn)動(dòng)速度快，很快到達(dá)陰極,；而正離子則由于質(zhì)量大,，速度慢不能在相同的時(shí)間內(nèi)到達(dá)陰極, 從而使陰極附近形成了帶負(fù)電的鞘層。正離子在鞘層的加速下,，垂直轟擊硅片表面,，加快表面的化學(xué)反應(yīng)及反應(yīng)生成物的脫離,，導(dǎo)致很高的刻蝕速率,。離子轟擊也使各向異性刻蝕得以實(shí)現(xiàn)等離子體去膠的原理和等離子體刻蝕的原理是一致的。不同的是反應(yīng)氣體的種類和等離子體的激發(fā)方式,。

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