等離子刻蝕機(jī),，又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī),、等離子體刻蝕機(jī),、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等,。等離子刻蝕,，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場(chǎng)加速時(shí),，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面,。
結(jié)構(gòu)
ICP 設(shè)備主要包括預(yù)真空室,、刻蝕腔、供氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)四部分,。
（1）預(yù)真空室
預(yù)真空室的作用是確?？涛g腔內(nèi)維持在設(shè)定的真空度，不受外界環(huán)境（如：粉塵,、水汽）的影響,，將危險(xiǎn)性氣體與潔凈廠房隔離開來。它由蓋板,、機(jī)械手,、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、隔離門等組成,。
（2）刻蝕腔體
刻蝕腔體是ICP 刻蝕設(shè)備的核心結(jié)構(gòu),，它對(duì)刻蝕速率、刻蝕的垂直度以及粗糙度都有直接的影響,?？涛g腔的主要組成有：上電極、ICP 射頻單元,、RF 射頻單元,、下電極系統(tǒng)、控溫系統(tǒng)等組成,。
（3）供氣系統(tǒng)
供氣系統(tǒng)是向刻蝕腔體輸送各種刻蝕氣體,，通過壓力控制器（PC）和質(zhì)量流量控制器（MFC）精準(zhǔn)的控制氣體的流速和流量。氣體供應(yīng)系統(tǒng)由氣源瓶,、氣體輸送管道,、控制系統(tǒng)、混合單元等組成,。
（4）真空系統(tǒng)
真空系統(tǒng)有兩套,，分別用于預(yù)真空室和刻蝕腔體,。預(yù)真空室由機(jī)械泵單獨(dú)抽真空,，只有在預(yù)真空室真空度達(dá)到設(shè)定值時(shí)，才能打開隔離門,，進(jìn)行傳送片,。刻蝕腔體的真空由機(jī)械泵和分子泵共同提供,，刻蝕腔體反應(yīng)生成的氣體也由真空系統(tǒng)排空,。
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