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ICP金屬元素雜質(zhì)分析光譜儀

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更新時間:2023-04-03 14:40:08瀏覽次數(shù):4831

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產(chǎn)品簡介

價格區(qū)間 20萬-50萬 儀器種類 順序掃描
應用領域 環(huán)保,化工,石油,地礦,能源
ICP金屬元素雜質(zhì)分析光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器,廣泛應用于稀土,、貴金屬,、合金材料,、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生,、冶金,、地質(zhì)、石油,、化工,、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼,、硅,、硅鐵、鎢,、鉬等行業(yè)分析檢測,,可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析。是集光,、機,、電、計算機,、分析技術于一體的技術產(chǎn)品,,具有測試速度快、測量范圍寬,、分析結(jié)果準確可靠等特點,。

詳細介紹

北京華科易通分析儀器有限公司,是ICP金屬元素雜質(zhì)分析光譜儀的專業(yè)制造廠商,。它是集科研,、生產(chǎn)、銷售,、技術服務于一體的高科技企業(yè),。HK-8100ICP金屬元素雜質(zhì)分析光譜儀,是我公司在現(xiàn)有技術的基礎上,,吸收技術成果研制開發(fā)的產(chǎn)品,。

ICP-AES/OES),主要用于微量/痕量元素的分析,,可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅,磷等少量的非金屬,,共72種,。廣泛應用于稀土、貴金屬,、合金材料,、電子產(chǎn)品,、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金,、地質(zhì),、石油、化工,、商檢,、環(huán)保以及釹鐵硼、硅,、硅鐵,、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測,,可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析,。

一、儀器整機主要性能參數(shù):

1,、波長范圍:190500nm3600L/mm光柵)或190800nm2400L/mm光柵),;

2、分辨率: 0.006nm3600L/mm光柵)或0.01nm2400L/mm光柵),;

3,、波長示值誤差和重復性:波長示值誤差≤0.02nm,重復性≤0.003nm,;

4,、掃描步距:0.0004nm

5,、重復性:RSD1.0%,;

6、穩(wěn)定性:RSD1.5%,;

7,、檢出限:ppb級;

8,、分析元素范圍:70余種金屬與非金屬元素,;

9、線性范圍:7個數(shù)量級以上,,且自吸效應極低,;

10、分析速度:每分鐘掃描快達25個元素以上,;

11,、等級證書:國家計量器具型式許可級(且遠優(yōu)于A)。

12,、必須有生產(chǎn)許可證:且規(guī)格要求滿足,,測量范圍:190-500nm

13 規(guī)格大?。洪L寬高:1.5m0.60mX1.2立式儀器方便推挪,免裝試驗臺*

14 配智能冷卻循環(huán)水箱(YT-1800)

15 配電腦

16 配惠普激光打印機

 

二,、儀器各部件詳細參數(shù):

射頻發(fā)生器(RF

1)電路類型:電感反饋自激式振蕩電路,、同軸電纜輸出、匹配調(diào)諧,、取功率反饋信號,,進行閉環(huán)自動控制;

2作頻率:40.68MHz±0.05%,;

3)頻率穩(wěn)定性:≤0.05%,;

4)輸出功率:8001200W

分光器

1)光路:CzernyTurner,;

2)焦距:1000mm,;

3)光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵;

4)分光器恒溫裝置:26℃±1℃,。

測光裝置

1)光電倍增管規(guī)格:R212UHR928,;

2)測光方式:單、多元素順序測量,。

操作軟件:

1)操作系統(tǒng):Windows 等主流 操作平臺,;

2)測定波長數(shù):任意選擇;

3)分析速度:每分鐘快25個元素以上,;

4)數(shù)據(jù)庫:線庫11萬條以上,;

5)多窗口:在測量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時、測量下一樣品,;

6)標準加入法:軟件要有標準加入法,,以便在不同條件和應用中下使用;

7)分析模式:軟件默認佳分析模式,,擁有儀器診斷,、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模式,單位任選等多種功能,;

8)歷史數(shù)據(jù)庫:在歷史數(shù)據(jù)庫中,,可以同時可選擇性地打印想要打印的批次分析結(jié)果;

9)數(shù)據(jù)輸出:軟件支持激光打印機打印分析結(jié)果,。

10)語言:可中英文雙語

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