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HMDS預(yù)處理真空烘箱全自動(dòng)涂膠烤箱

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  • HMDS預(yù)處理真空烘箱全自動(dòng)涂膠烤箱
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參考價(jià) 150000
訂貨量 1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) PVD-210-HMDS
  • 品牌 TATUNG
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海市
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更新時(shí)間:2020-03-26 13:52:31瀏覽次數(shù):1589

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HMDS預(yù)處理真空烘箱全自動(dòng)涂膠烤箱
PVD-210-HMDS預(yù)處理真空烘箱,,PLC電腦式全自動(dòng)涂膠烤箱,,主要用于半導(dǎo)體,,電子行業(yè),預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱HMDS預(yù)處理過(guò)程的工作溫度,、處理時(shí)間,、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性,。

詳細(xì)介紹

HMDS預(yù)處理真空烘箱全自動(dòng)涂膠烤箱
HMDS預(yù)處理真空烘箱全自動(dòng)涂膠烤箱

HMDS預(yù)處理真空烘箱/電腦式HMDS涂膠烤箱

一,、HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),,涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,,涂膠工藝顯得更為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,,容易造成漂條、浮膠等,,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況,。將HMDS涂到硅片表面后,,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,,起著偶聯(lián)劑的作用。

二,、產(chǎn)品特點(diǎn):

1)外殼SUS304不銹鋼材質(zhì),,內(nèi)膽316L不銹鋼材料,;采用不銹鋼加熱管,均勻分布在內(nèi)膽外壁,,內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置;采用鋼化,、防彈雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內(nèi)物品實(shí)驗(yàn)情況,。無(wú)發(fā)塵材料,適用百級(jí)光刻間凈化環(huán)境使用,。

2)箱門(mén)閉合松緊能調(diào)節(jié),,整體成型的硅橡膠門(mén)封圈,,確保箱內(nèi)保持高真空度。

3) 溫度采用微電腦PID控制,系統(tǒng)具有自動(dòng)控溫,定時(shí),超溫報(bào)警等,LCD液晶顯示,觸摸式按鈕,簡(jiǎn)單易用,性能穩(wěn)定可靠.

4)智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序,、溫度,、真空度及每一程序時(shí)間。

5)HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì),,使真空箱密封性能*,,確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。

三,、技術(shù)參數(shù):PVD-090-HMDS

型號(hào):PVD-090-HMDS,,容積90L,控溫范圍RT+10~250℃,,溫度分辨率:0.1℃

控溫精度:±0.5℃,,托架數(shù)量:2pcs,真空度:<133Pa(真空度范圍100~100000pa)

,,真空泵:DM4(外置,,316不銹鋼波紋管連接),電源:AC220/50HZ,,額定功率:3.0KW

內(nèi)膽尺寸mm:450x450x450 (W*D*H),,外形尺寸mm:650x640x910 (W*D*H)

四、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的原理:

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱HMDS預(yù)處理過(guò)程的工作溫度,、處理時(shí)間,、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性,。

五,、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的一般工作流程:

首先確定烘箱工作溫度。典型的預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_(kāi)真空泵抽真空,,待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一高真空度后,,開(kāi)始充入氮?dú)猓涞侥车驼婵斩群?,再次進(jìn)行抽真空,、充入氮?dú)獾倪^(guò)程,到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后,,開(kāi)始保持一段時(shí)間,,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分,。然后再次開(kāi)始抽真空,,充入HMDS氣體,,在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后,停止充入HMDS藥液,,進(jìn)入保持階段,,使硅片充分與HMDS反應(yīng)。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后,,再次開(kāi)始抽真空,。充入氮?dú)猓瓿烧麄€(gè)作業(yè)過(guò)程,。HMDS與硅片反應(yīng)機(jī)理如圖:首先加熱到100-200,,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),,在硅片表面生成硅醚,,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面,。整個(gè)反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(*基硅烷基較大)阻止其進(jìn)一步反應(yīng),。

六、尾氣排放:多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,,排放到廢氣收集管道,。在無(wú)廢氣收集管道時(shí)需做專門(mén)處理。

七,、產(chǎn)品操作控制系統(tǒng)平臺(tái)配置:

DM4直聯(lián)旋片式真空泵,,溫控器控制溫度,日本三菱可編程觸摸屏操作模塊,固態(tài)繼電器,,加急停裝置,。

選購(gòu)件:富士溫控儀表(溫度與PLC聯(lián)動(dòng))、三色燈,、壓力記錄儀和溫度記錄儀,。

其它選配:

1)波紋管2米或3米(標(biāo)配含1米)

2)富士溫控儀表(溫度與PLC聯(lián)動(dòng))

3)三色燈

4)增加HMDS液體瓶

5)下箱柜子(304不銹鋼)適用于外304不銹鋼內(nèi)316不銹鋼標(biāo)準(zhǔn)款式

6)壓力、溫度記錄儀(帶曲線,,二合一)

 

備注:選配壓力記錄儀,、溫度記錄儀時(shí),因工藝需要改變?cè)O(shè)備整個(gè)外箱結(jié)構(gòu),,請(qǐng)參考實(shí)物圖,。外殼采用SS41粉末靜電噴涂,內(nèi)膽采用316L不銹鋼,,外箱尺寸為(W*D*H)mm:980x655x1600(含下箱柜高700),,下箱柜空置,。

PVD-210-HMDS技術(shù)參數(shù):

PVD-210-HMDS,,電源電壓:AC380V/50Hz,,輸入功率:4000W,控溫范圍:室溫+10℃-250℃,,溫度分辨率:0.1℃,,溫度波動(dòng)度:±0.5℃,真空度極限:<133Pa,,容積:210L,,內(nèi)室尺寸(mm):560*640*600,外形尺寸(mm):寬1220*深930*高1755 mm,,載物托架:3塊,,時(shí)間單位:分鐘

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