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等離子清洗機(jī)的工作清洗原理及在封裝工藝中的應(yīng)用
等離子清洗機(jī)是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果,。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài),。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子,、活性基團(tuán),、激發(fā)態(tài)的核素、光子等,。就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性,、涂覆,、光刻膠灰化等目的。
等離子清洗機(jī)的工作清洗原理：
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),，通常物質(zhì)以固態(tài),、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在,，如地球大氣中電離層中的物質(zhì),。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子,、分子,、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子,、分子,；未反應(yīng)的分子、原子等,，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài),。
在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體,，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面．以達(dá)到清洗目的,。
等離子清洗機(jī)在封裝工藝中的應(yīng)用：
在微電子封裝的生產(chǎn)過程中，由于指印,、助焊劑,、各種交叉污染、自然氧化等,，器件和材料表面會(huì)形成各種沾污,，包括有機(jī)物、環(huán)氧樹脂,、光刻膠,、焊料、金屬鹽等,。這些沾污會(huì)明顯地影響封裝生產(chǎn)過程中的相關(guān)工藝質(zhì)量,。
使用等離子體清洗可以很容易清除掉生產(chǎn)過程中所形成的這些分子水平的污染，保證工件表面原子與即將附著材料的原子之間緊密接觸,，從而有效地提高引線鍵合強(qiáng)度,，改善芯片粘接質(zhì)量，減少封裝漏氣率,，提高元器件的性能,、成品率和可靠性。
所在鋁絲鍵合前采用等離子體清洗后,，鍵合成品率提高10%,，鍵合強(qiáng)度一致性也有提高。在微電子封裝中,，等離子體清洗工藝的選擇取決于后續(xù)工藝對(duì)材料表面的要求,、材料表面的原有特征,、化學(xué)組成以及污染物的性質(zhì)等。
通常應(yīng)用于等離子體清洗的氣體有氬氣,、氧氣,、氫氣、四氟化碳及其混合氣體等,。