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上海添時科學儀器有限公司

等離子鍍膜設備主要優(yōu)勢體現

時間:2021-7-22 閱讀:1549
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等離子鍍膜設備采用真空蒸發(fā)鍍膜法,,在玻璃外表面涂制一層納米化學材料,,大限度的降低玻璃表面張力,,使灰塵與玻璃表面的接觸面積減少90%以上,。AF鍍膜機作用后的外表面具有較強的疏水、抗油污,、抗干擾能力;使視屏玻璃面板長期保持著光潔亮麗的效果,。

  等離子鍍膜設備主要優(yōu)勢體現:

  1,、AF噴涂設備采用原裝德國進口納米噴頭,噴頭采用高低壓轉換霧化設計,,使液態(tài)分子極精細,,且不影響藥水效果。

  2,、恒定流量控制系統(tǒng),,保證藥水平穩(wěn)恒定的供流,而非波浪線式供流,,解決白霧現象,。

  3、控制噴涂藥量,,提高藥水的霧化能力,,使膜層與玻璃能均勻的結合,提高產品噴涂的均勻性,,增大膜層表面爽滑度,。

  4、噴嘴運動速度及輸送線速度均可調,,大大提高了生產效率,,滿足各種用戶需求。

  5,、理論設計產能3000片-4000片/小時,。

  6、采用雙等離子處理,,鍍膜前對工件進行清潔處理,,降低工件本身附帶的雜質,使玻璃表面與膜層發(fā)生附和反應,,提高膜層結合的牢固度,,提升產品的抗老化以及耐摩擦能力,使鍍膜品質更高。

  表面清潔:對于C,O臟污(有機物),,大氣等離子有很強洗凈效果(氧化反應)

  表面活性化:等離子分解分子結合材料,、形成OH基=活性效果。

  表面粗面化:等離子粒子以NM單位破壞表面=粗面效果,。

  特別提示:等離子鍍膜設備主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜,,所以并不需要太高的真空度為了較好地排出真空腔體中的氧氣,建議用5%H2+95%N2對真空腔體清洗,,可有效減少真空腔體中的氧含量請用純度大于5N的Ar來進行等離子濺射,,甚至5N的Ar中也含有10-100ppm的氧和水,所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統(tǒng)過后,,再導入到真空腔體內,。

 

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