談到磁控濺射,，首先就要說(shuō)濺射技術(shù)。濺射技術(shù)是指使得具有一定能量的粒子轟擊材料表面,，使得固體材料表面的原子或分子分離,，飛濺落于另一物體表面形成鍍膜的技術(shù)。被粒子轟擊的材料稱(chēng)為靶材,，而被鍍膜的固體材料稱(chēng)為基片,。首先由極板發(fā)射出粒子，這些粒子一般是電子,，接著使它們?cè)谕怆妶?chǎng)加速下與惰性氣體分子一般是氬氣分子(即Ar原子)碰撞,，使得其電離成Ar離子和二次電子。Ar離子會(huì)受到電場(chǎng)的作用,，以高速轟擊靶材,，使靶材表面原子或分子飛濺出去，落于基片表面沉積下來(lái)形成薄膜,。

　　磁控濺射就是在外加電場(chǎng)的兩極之間引入一個(gè)磁場(chǎng),。這個(gè)磁場(chǎng)使得電子受到洛倫茲力的束縛作用，其運(yùn)動(dòng)路線受到控制,，因此大大增加了電子與Ar分子碰撞的幾率,，提高了氣體分子的電離程度，從而使濺射效率得到很大的提升,。

　　濺射現(xiàn)象自發(fā)現(xiàn)以來(lái)己被廣泛應(yīng)用在多種薄膜的制備中,，如制備金屬、半導(dǎo)體,、合金,、氧化物以及化合物半導(dǎo)體等。

　　濺射是一種物理氣相沉積技術(shù),，它利用高能粒子轟擊某種材料的靶材表面,，靶面的原子或分子在碰撞的作用下從中逸出，使靶材原子最終淀積在襯底材料上形成薄膜,。密閉容器中平行的電極板間充入惰性氣體一般是氬氣,，在不大于1000Pa的氣壓下施以較高的電壓，使得氬氣發(fā)生輝光放電現(xiàn)象產(chǎn)生正離子,，在電場(chǎng)的作用下加速運(yùn)動(dòng)撞擊陰極,，產(chǎn)生二次電子。二次電子在飛向陽(yáng)極的過(guò)程中與中性的氬氣原子碰撞，當(dāng)氬原子的離化能大于通過(guò)碰撞傳遞的能量時(shí),，原子會(huì)被激發(fā)至高能態(tài),，然后在躍遷回低能態(tài)的過(guò)程中釋放光子，產(chǎn)生輝光放電,。

　　另外一部分碰撞傳遞的能量大于氣體原子的離化能,，原子會(huì)被離化，產(chǎn)生帶正電的離子和帶負(fù)電的電子,，電子向陽(yáng)極運(yùn)動(dòng),，再次與其他的氣體原子發(fā)生碰撞，離子加速向陰極運(yùn)動(dòng),，轟擊靶材,。

　　VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對(duì)于高通量MGI(材料基因組計(jì)劃)薄膜的研究,。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料,，通過(guò)5種元素，按16種不同配比組合,。