多靶磁控濺射鍍膜機 型號：YQDH-500JJC 貨號：ZH5498 
產(chǎn)品簡介
  該鍍膜機主于科研實驗，可制備納米和微米的單層及多層工能膜-種硬質(zhì)膜,，光學(xué)膜,，金屬膜，鐵磁薄膜,，半導(dǎo)體膜,，介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
  該鍍膜機為前開門式設(shè)計,，功能強,，鍍膜穩(wěn)定，重復(fù)性好,，操作簡便,。真空室材料均采用優(yōu)良材SUS304不繡鋼材料制造，規(guī)范,，,，了材料的成膜度。
  采用分子泵+直聯(lián)機械泵機組,，具有抽速快,，油，操作方便快捷，易于維護的特點,。
1     鍍膜方式：可實現(xiàn)多靶共濺模式
2     磁控靶：圓柱/平面靶,；
3     進氣系統(tǒng)：三路流量計；
4     鍍膜室體積：500×500×600mm3
5     限真空度：6.7×10-5Pa; 恢復(fù)真空度：從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鐘﹞
6     真空抽氣系統(tǒng)：機械泵與分子泵組成,；
7     真空測量系統(tǒng)：數(shù)顯復(fù)合真空計,；
8     工作電源：真流電源500W；射頻電源500W﹝13.56MHz﹞,；加熱控溫電源,；
9     工作烘烤溫度：室溫～800℃可控可調(diào)﹝PID控溫﹞；
10    選配件：石英晶振測厚儀,，冷卻水機組等,；
11    供電電源：三相AC380V，50Hz