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產(chǎn)品概述
MProbe UVVisSR薄膜測厚儀大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量,。比如：氧化物,，氮化物，光刻膠,，高分子聚合物,，半導體(硅，單晶硅,，多晶硅),，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅,，類金剛石炭),，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯,，聚酰胺)
該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物,，氮化物,，光刻膠，高分子聚合物,，半導體(硅,，單晶硅，多晶硅),，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅,，類金剛石炭),，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯,，聚酰胺)
測量范圍: 1 nm -50um
波長范圍: 200 nm -1000 nm
MProbe UVVisSR薄膜測厚儀適用于實時在線測量,，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),，新材料可以很容易的添加,，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。
測量指標：薄膜厚度,，光學常數(shù)
界面友好強大: 一鍵式測量和分析,。
實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正,，連接層和材料,，多樣品測量，動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理,。
（MProble NIR薄膜測厚儀系統(tǒng)示 ）
案例1,，73nm SiN氮化硅薄膜的測量
使用Tauc-Lorentz模型，測量SiN薄膜的n和k值
使用Tauc-Lorentz模型,，測量SiN薄膜的n和k值
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