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奈米碳管與石墨烯製程,。

SiOx、SiNx,、a-Si,、DLC和其他薄

膜製程。

二維材料,。

醫(yī)療和商業(yè)產(chǎn)品的耐磨薄膜,。

陽(yáng)極電鍍處理鋁腔。

通過使用水冷系統(tǒng),、加熱器或

加熱包來控制腔體溫度,。

客製化的基板尺寸，最大直徑可達(dá)

12寸晶圓,。

腔體壓力：50~10-3 Torr,。

精準(zhǔn)流量控制器，氣體分佈高度均勻,，最多可擴(kuò)充10條氣體管線,。

穩(wěn)定的溫度控制，將載盤加熱至700°C,。

使用Tornado ICP線圈,，ICP電漿範(fàn)

圍為50W ~2000W，滿足客戶ICP-CVD製程需求,。

可以與傳送腔,、機(jī)械手臂和手

套箱整合在一起。

RPS用於腔體清潔,。

橢圓偏振光譜儀,。

發(fā)射光譜儀。

高真空傳送系統(tǒng),。