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高真空單輥旋淬及噴鑄系統(tǒng)--XC500

真空室結(jié)構(gòu):圓筒形前開門

真空室尺寸:φ500X300mm

極限真空度:≤6.67E-5Pa

沉積源:

樣品尺寸,，溫度:感應(yīng)熔煉10克純鐵樣品，在30秒鐘內(nèi)化

占地面積(長(zhǎng)x寬x高):約2.7米x1.4米x2米

電控描述:手動(dòng)

工藝:不含工藝

特色參數(shù): 高速輥輪線速度0-50m/s可調(diào);坩堝手動(dòng)直線進(jìn)給機(jī)構(gòu);條帶接收器:Ф125x1500mm

產(chǎn)品概述:

系統(tǒng)主要由感應(yīng)熔煉真空室,、轉(zhuǎn)動(dòng)門,、單輥旋淬裝置、感應(yīng)熔煉機(jī)構(gòu),、手動(dòng)直線進(jìn)給機(jī)構(gòu),、噴鑄系統(tǒng)、工作氣路、系統(tǒng)抽氣,、真空測(cè)量及電氣控制系統(tǒng),、安裝機(jī)臺(tái)等各部分組成。

設(shè)備用途:

高真空單輥旋淬及噴鑄系統(tǒng)是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的專用設(shè)備,，該設(shè)備具有制備金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實(shí)驗(yàn)工作,，廣泛用于新型稀土永磁材料、非晶軟磁材料及納米材料科學(xué)的開發(fā)與研究,。