產(chǎn)地類別 |
進口 |
產(chǎn)品種類 |
臺式 |
價格區(qū)間 |
面議 |
數(shù)顯功能 |
有 |
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無 |
應(yīng)用領(lǐng)域 |
食品/農(nóng)產(chǎn)品,化工,綜合 |
ATAGO愛拓半導(dǎo)體光刻膠折射率阿貝折光儀 DR-M2/M4(最大1,100nm),,可在波長450至1,100nm范圍內(nèi),,使用不同的波長測量折射率(nD)和阿貝數(shù)值,。廣泛用于測量:濃縮果汁,、香精香料、工業(yè)溶液,、化工材料,、光學(xué)玻璃、塑料薄
光刻膠又稱光致抗蝕劑,,是一種對光敏感的混合液體,。其組成部分包括:光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑),、光刻膠樹脂,、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學(xué)反應(yīng),,經(jīng)曝光,、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓殘D形從光罩(掩模版)轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場景,,這里的待加工基片可以是集成電路材料,,顯示面板材料或者印刷電路板。
在平板顯示行業(yè):主要使用的光刻膠有彩色及黑色光刻膠,、LCD觸摸屏用光刻膠,、TFT-LCD正性光刻膠等。在光刻和蝕刻生產(chǎn)環(huán)節(jié)中,,光刻膠涂覆于晶體薄膜表面,,經(jīng)曝光、顯影和蝕刻等工序?qū)⒐庹郑ㄑ谀ぐ妫┥系膱D形轉(zhuǎn)移到薄膜上,,形成與掩膜版對應(yīng)的幾何圖形,。

在PCB行業(yè):主要使用的光刻膠有干膜光刻膠、濕膜光刻膠,、感光阻焊油墨等,。干膜是用特殊的薄膜貼在處理后的敷銅板上,進行曝光顯影,;濕膜和光成像阻焊油墨則是涂布在敷銅板上,,待其干燥后進行曝光顯影。干膜與濕膜各有優(yōu)勢,,總體來說濕膜光刻膠分辨率高于干膜,,價格更低廉,正在對干膜光刻膠的部分市場進行替代,。在半導(dǎo)體集成電路制造行業(yè):主要使用g線光刻膠,、i線光刻膠、KrF光刻膠,、ArF光刻膠等,。在大規(guī)模集成電路的制造過程中,一般要對硅片進行超過十次光刻,。在每次的光刻和刻蝕工藝中,,光刻膠都要通過預(yù)烘、涂膠,、前烘,、對準、曝光,、后烘,、顯影和蝕刻等環(huán)節(jié),,將光罩(掩膜版)上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。

光刻膠是集成電路制造的重要材料:光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能,、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素,。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的35%,并且耗費時間約占整個芯片工藝的40%~50%,。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%,,市場巨大。因此光刻膠是半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料,。按顯示效果分類,,光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠。負性光刻膠顯影時形成的圖形與光罩(掩膜版)相反,;正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同,。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致,區(qū)別在于主要原材料不同,。按照化學(xué)結(jié)構(gòu)分類,;光刻膠可以分為光聚合型,光分解型,,光交聯(lián)型和化學(xué)放大型,。光聚合型光刻膠采用烯類單體,在光作用下生成自由基,,進一步引發(fā)單體聚合,,最后生成聚合物。光分解型光刻膠,,采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑,,其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應(yīng),可以制成正性光刻膠,;
在半導(dǎo)體集成電路光刻技術(shù)開始使用深紫外(DUV)光源以后,,化學(xué)放大(CAR)技術(shù)逐漸成為行業(yè)應(yīng)用的主流。在化學(xué)放大光刻膠技術(shù)中,,樹脂是具有化學(xué)基團保護因而難以溶解的聚乙烯,。化學(xué)放大光刻膠使用光致酸劑(PAG)作為光引發(fā)劑,。

按照曝光波長分類,,光刻膠可分為紫外光刻膠(300~450nm),、深紫外光刻膠(160~280nm),、極紫外光刻膠(EUV,13.5nm),、電子束光刻膠,、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。不同曝光波長的光刻膠,,其適用的光刻極限分辨率不同,。通常來說,在使用工藝方法一致的情況下,,波長越短,,加工分辨率越佳。
可測量不同波長下的折射率與阿貝數(shù)值,,數(shù)字顯示,,準確清晰,活動光源,,可定做濾光片,,對薄膜的XYZ軸有特殊方法檢測!
ATAGO愛拓半導(dǎo)體光刻膠折射率阿貝折光儀 DR-M2/M4(最大1,100nm),,可在波長450至1,100nm范圍內(nèi),,使用不同的波長測量折射率(nD)和阿貝數(shù)值。測量結(jié)果通過調(diào)整分界線至十字交叉點確定,,測量結(jié)果在LCD顯示屏以數(shù)字形式顯示,,與傳統(tǒng)型阿貝折射儀相比,讀數(shù)更快速更清晰,。尤其適合高精度測量眼鏡片等聚酯材質(zhì)的折射率,。
ATAGO愛拓半導(dǎo)體光刻膠折射率阿貝折光儀,廣泛用于測量:濃縮果汁,、香精香料,、工業(yè)溶液、化工材料,、光學(xué)玻璃,、塑料薄膜、各種新型材料及某些固體物質(zhì)的折射率(nD)及Brix值,。