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北京海富達(dá)科技有限公司
主營產(chǎn)品： 臭氧檢測儀,環(huán)境檢測儀器,水質(zhì)分析儀/ORP測定儀/溶解氧 |
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聯(lián)系電話
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北京海富達(dá)科技有限公司
主營產(chǎn)品： 臭氧檢測儀,環(huán)境檢測儀器,水質(zhì)分析儀/ORP測定儀/溶解氧 |
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| 參考價 | ￥ 150000 |
| 訂貨量 | 1臺 |
更新時間：2024-06-28 08:37:07瀏覽次數(shù)：2174
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工 |
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袖珍型高真空磁控濺射儀報價袖珍型高真空磁控濺射儀報價（可噴鎂，鋁,，金銀鉑） 型號:KM1-SD-650MH庫號：M403191
原理：
濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在
異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電
場的作用下,，對陰極靶材表面進(jìn)行轟
擊，把靶材表面的分子,、原子,、離子
及電子等濺射出來，被濺射出來的粒
子帶有一定的動能,，沿一定的方向射
向基體表面,，在基體表面形成鍍層。
濺射時產(chǎn)生的快電子在正交的電磁
場中作近似擺線運(yùn)動,，增加了電子行
程,，提高了氣體的離化率，同時高能
量粒子與氣體碰撞后失去能量,，基體
溫度較低,，在不耐溫材料上可以完成
鍍膜。
用途：
KM1-SD-650MH 高真空磁控濺射鍍膜儀是袖珍型磁控濺射
設(shè)備,主要由濺射真空室,、磁控濺射靶,、樣品臺,、工作氣路、抽氣系統(tǒng),、安裝機(jī)臺,、真空測
量及電控系統(tǒng)等部分組成,。高真空濺射可用于金屬,、半導(dǎo)體、絕緣體等多種薄膜材料的
制備,，且具有設(shè)備簡單,、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),，可用于大專,、科研
院所的薄膜材料研究、制備,。
參數(shù)：
儀器主機(jī)尺寸: 長 610mm×寬 420mm×高 220mm（注：含腔體總高 490mm）
工作腔室尺寸： 標(biāo)配：玻璃腔體（高度可選）：直徑 260mm×高 200mm（外尺寸）
直徑 240mm×高 200mm（內(nèi)尺寸）
選配：金屬腔體：直徑 260mm×高 270mm（外尺寸 ）
直徑 210mm×高 270mm（內(nèi)尺寸）
靶頭： 標(biāo)配：單靶
選配：雙靶（雙靶儀器主機(jī)尺寸和工作腔體尺寸會隨之增大）
靶材尺寸： 直徑 50mm×厚 3mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）
靶材料： 標(biāo)配一塊直徑 50mm×3mm 的銅靶（可選配多種靶材）
靶槍冷卻方式： 水冷
真空系統(tǒng)： 抗沖擊渦輪分子泵,，抽速為 300L/s
前級機(jī)械泵： 抽速為 4L/s，帶防返油電磁閥及油污過濾器
真空測量： 采用復(fù)合真空計監(jiān)測真空
真空度: 5×10
-5Pa（10 分鐘可到 9×10
-4Pa）
電源： 標(biāo)配：直流恒流電源：輸入電壓：220V
輸出電壓：0-600v
輸出電流：0-1.6A
選配：射頻功率電源：功率 1000W,，配射頻匹配器,。
載樣臺： 直徑 200mm，可根據(jù)客戶需求定制載樣臺,。
工作氣體： Ar 等惰性氣體（需自備氣瓶及減壓閥）
氣路： 濺射真空度手動調(diào)整（可選配氣體質(zhì)量流量計）
水冷： 自循環(huán)冷卻水機(jī)
電源電壓： 220V 50Hz
啟動功率 3KW
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SD-3000離子濺射儀報價 ¥ 43800
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SD-650MH袖珍型高真空磁控濺射儀報價 ¥ 150000
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SD-650MH高真空磁控濺射儀報價 ¥ 150000
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SD-900M磁控濺射儀報價 ¥ 43800
